판매용 중고 VERTEQ ST600-41L #293597566

VERTEQ ST600-41L photoresist 장비는 photoresist 마스크 재료를 처리하고 신뢰할 수있는 결과를 제공하도록 설계된 고급 시스템입니다. 이 장치는 고급 리소그래피 (lithography), 도량형 (metrology) 및 트랙 도구 (track tools) 로 구성되며 결함을 줄이고 수율을 개선하도록 설계된 진공 사진 조정기를 갖추고 있습니다. ST600-41L Photoresist Machine은 다음과 같은 기능을 갖춘 고급 도구입니다. 다중 레이어 Photoresist Processing: VERTEQ ST600-41L 에셋은 최대 4 개의 photoresist 레이어를 동시에 처리 할 수 있습니다. 이것은 복잡한 구조와 특징을 쉽게 생성 할 수 있음을 의미합니다. 또한, 모델은 두꺼운 필름과 얇은 필름을 모두 처리하여 추가 박막 프로세스의 필요성을 줄일 수 있습니다. 서브 미크론 해상도 (Sub-Micron Resolution): 이 장비는 업계 최고의 0.2 미크론 해상도를 자랑하여 포토 esist 처리 중 최고 수준의 정밀도를 보장합니다. 이 시스템에서는 너비와 높이가 0.2 미크론인 다층 구조를 쉽게 처리 할 수 있습니다. Automated True Focus Metrology Unit: ST600-41L (Automated True Focus Metrology Unit) 은 자동화된 트루 포커스 도량형 머신을 포함하며, 이를 통해 넓은 영역에 걸쳐 패턴의 광학 초점을 정확하게 측정할 수 있습니다. 이렇게 하면 선 폭과 균일성이 향상됩니다. 평면 내 스테이지 제어 (In-Plane Stage Control): 평면에서 매우 정확한 스테이지 제어는 넓은 영역에 걸쳐 일관된 패턴 반복 정확도 (CD 균일성) 를 보장합니다. 이렇게 하면 수동 리터칭이 필요하지 않습니다. 통합 Ozone 및 UV 노출 도구: 통합 Ozone 및 UV 노출 에셋은 photoresist 레이어를 노출 할 때 최적의 일관성을 보장합니다. 고정밀 GY 축 (High-Precision GY Axis): 고정밀 GY 축은 정확한 위치를 제공하여 웨이퍼 레벨 기능을 쉽게 처리할 수 있습니다. 이 축은 자동 심 요구사항을 사용하여 정확하게 정렬할 수 있습니다. 로봇 로더 (Robot Loader): 로봇 로더를 사용하면 모델의 웨이퍼를 빠르고 정확하게 로드하고 언로드할 수 있습니다. 이는 전송 오류를 줄이고 전체 처리 시간을 최소화합니다. 프로세스 추적 소프트웨어 (Process Tracking Software): 프로세스 추적 소프트웨어를 사용하면 웨이퍼 처리의 진행 상황을 일관되게 추적할 수 있습니다. 이를 통해 최종 제품이 고객 요구 사항을 충족할 수 있습니다. VERTEQ ST600-41L 포토리스 스틱 장비 (Photoresist Equipment) 는 향상된 수율로 신뢰할 수있는 포토레스 마스크 생산이 가능한 강력한 기능을 갖춘 고급 시스템입니다. 멀티 레이어 처리 기능, 서브 미크론 해상도, 자동화된 진정한 초점 도량형 장치 (True Focus Metrology Unit) 를 통해 높은 정밀도로 복잡한 패턴과 기능을 생산할 수 있습니다. 또한 통합 오존 및 UV 노출 기계, 고정밀 GY 축, 로봇 로더 및 프로세스 추적 소프트웨어를 사용하면 프로세스 시간과 오류를 줄일 수 있습니다.