판매용 중고 VERTEQ 1800 #293760299

VERTEQ 1800은 다른 광학 프로젝션 시스템에 비해 수율 처리량을 최대 25% 향상시키는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 단일화 (single-exposure) 도구로서 단일화 (single-line) 및 이중화 (double) 패턴화를 비롯한 다양한 세부적인 리소그래피 프로세스에 적합합니다. 이 시스템은 고해상도와 안정성을 갖춘 5x-80배의 폭을 제공합니다. 1800 시리즈의 photoresist 시스템은 매우 효율적인 0.165 미크론 기능 기능을 제공하는 고출력 및 고해상도 이진 투영 광학을 특징으로합니다. 최대 9 개의 레이저 다이오드 광원이 노출되어 처리량을 증가시키는 최대 16 메가 와트의 UV 전력을 제공합니다. photoresist 단위는 BCD, 다이 투 다이 및 웨이퍼 투 웨이퍼 정렬 기술도 가능합니다. VERTEQ 1800 의 Automated Module 은 고급 정렬 기능 및 패턴 기반 최적화를 통해 프로세스 반복성과 정확성을 향상시킵니다. 이 시스템은 여러 작업 및 향상된 처리량에 사용할 수 있는 자동 MUI (Multi-User Interface) 를 제공합니다. 또한 소프트웨어는 정확한 아날로그 곡선 분포를 위해 RTE (Reverse Tone Exposure) 를 지원합니다. 1800은 또한 다운타임을 최소화하면서 웨이퍼를 통해 초과 전압을 신속하게 조정하는 온와퍼 (on-wafer) 전압 트리밍을 제공합니다. 또한, 이 도구는 온도, 전력, 용량 및 웨이퍼 간 정렬을 모니터링하기 위해 여러 지능형 센서 슬롯으로 설계되었습니다. 환경 을 경계 하는 이러 한 감시 는 "와퍼 '가 더 빨리 침착 하고 오염 을 최소화 함 으로" 플라나라화' 를 보장 한다. 에셋은 또한 미세 모듈 (micro-module) 이 패턴을 감지하고 해당 영역의 대다수가 왜곡되더라도 정확한 위치에 정렬할 수있는 정확한 기하학적 오버레이 (geometrical overlay) 기능을 갖추고 있습니다. 또한, 포토 esist 모델에서 내장 된 MEMS 스캐너 기술은 루핑 지연 시간을 보장하지 않으며 초당 최대 400 밀리미터의 넓은 스캐닝 속도를 보장하여 균일 한 기능 커버거를 보장합니다. 전반적으로 VERTEQ 1800 포토레스 장비는 기존 시스템에 비해 최적화된 안정성, 출력량 개선, 자동 MUI 및 고해상도와 같은 기능을 제공합니다. 이것은 포토레스 시스템을 미세 라인 리소그래피 응용 프로그램 생산에 이상적인 선택으로 만듭니다.