판매용 중고 VERTEQ 1800-6AR #9316070

VERTEQ 1800-6AR 포토레지스트 (photoresist) 장비는 집적 회로 및 기타 전자 장치의 제조에 사용되는 포토레시스트 층의 자동 인라인 화학 개발 및 에칭을위한 고도의 화학 처리 시스템입니다. 이 장치 는 여러 개 의 "모듈 '로 구성 되어 있으며, 여러 가지 화학 물질 과 공정 을 지지 할 수 있다. 모듈에는 개발자 모듈, etchback 모듈, cleanroom 모듈, 도금 모듈 및 폐기물 관리 모듈이 포함됩니다. 각 모듈은 개별적으로 작동하며, 접속하여 완전 자동화 (fully automated) 시스템을 생성할 수 있습니다. 개발자 모듈은 화학 목욕을 사용하여 웨이퍼의 노출 된 영역에서 포토 esist를 제거합니다. 화학 물질 개발 과정 은 완전 히 밀폐 된 "챔버 '에서 이루어지며, 필요 한 모든 안전 과 취급 조건 이 유지 된다. 그 과정 중 에, 개발자 용액 은 약실 전역 에 순환 되며, 광전물질 은 화학 목욕 에 노출 되는데, 그 로 인해 "바아더 '의 부면 이 분해 되고 용액 에 용해 되어" 와우퍼' 의 부면 이 남아 추가 가공 을 할 준비 가 된다. 에치백 (etchback) 모듈은 과도한 포토레시스트를 제거하기 위해 사용되어 웨이퍼의 전체 두께를 줄입니다. 이 과정 은 보통 밀폐 된 챔버 (closed chamber) 에서 수행 되는데, 여기 에서 화학 용액 을 사용 하여 "웨이퍼 '표면 에서 광물질 을 탈취 한다. 이 과정 은 "웨이퍼 '에서 제거 된 물질 의 양 을 매우 정확 하게 제어 하여 원하는" 레지스트' 두께 를 달성 할 수 있다. "클리니룸 '" 모듈' 은 화학적 증기 로 인한 오염 과 잔류 가 완성 된 전자 기기 의 질 을 쉽게 떨어뜨릴 수 있기 때문 에, 광전자 장치 가 깨끗 하고 조종 된 환경 에서 진행 되도록 보장 한다. 공기 의 질 은, 공기 의 입자 를 제거 하고, 최적 의 작업 환경 을 유지 하기 위해 밀접 히 감시 되고 "필터링 '된다. 도금 모듈은 웨이퍼의 포토 esist-exposed 표면에 전기 도금 금속 침전물에 사용됩니다. 이 과정에서, 금속 화합물은 액체 용액 (liquid solution) 에 매달려 전기적으로 충전되어, 얇은 금속층이 웨이퍼 (wafer) 에 침전된다. 마지막으로, 폐기물 관리 모듈 (Waste Management Module) 은 포토레스 처리 과정에서 생성된 모든 유해 폐기물 물질을 안전하게 폐기합니다. 여기에는 승인 된 폐기물 처리 사이트로 수집, 저장 및 운송이 포함될 수 있습니다. 요약하자면, 1800-6AR 포토레시스트 (photoresist) 도구는 집적 회로 및 기타 전자 장치를 제조 할 수있는 화학 가공 자산입니다. 이 모델은 5 개의 운영 모듈 (개발자, etchback, cleanroom, 도금 및 폐기물 관리 모듈) 로 구성되어 있으며, 결합되면 완전히 자동화 된 프로세스를 허용합니다. 그 장비 는 매우 정확 하며, 깨끗 하고 제어 된 환경 을 보장 하고, 모든 유해 한 폐기물 을 안전 하게 처리 한다.