판매용 중고 VERTEQ 1800-6AL #9255507

VERTEQ 1800-6AL 포토 esist 장비는 포토 리토 그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 통합 저항 증착 및 노출 후 베이크 (PEB) 시스템입니다. 이 장치는 고성능 레지스트 (Resist) 전달과 고급 노출 후 베이크 스테이션 (Post-Exposure Bake Station) 을 제공하여 최적화된 프로세스 반복성을 위한 전용 온도 및 시간 설정을 제공합니다. 1800-6AL은 수직 구성으로 설계되어 설치 공간을 크게 줄이고 유지 관리를 단순화합니다. 이 기계는 고정밀, 부식 내성, 저항 전달 펌프 및 진공 벤투리 (venturi) 를 특징으로하여 원활한 저항 증착과 일관된 저항 두께를 보장합니다. 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface) 는 최대 12 개의 개별 레시피를 통해 사용이 간편한 툴을 제공하여 원하는 저항 환경을 신속하게 구성할 수 있습니다. 또한, 자산에는 핫 플레이트 (hot plate) 가 장착되어 있으며 온도 또는 시간 범위에서 조절 가능한 컨트롤이 장착되어 있습니다. 노출 후 베이크 스테이션은 열 안정성과 균일성 향상을 위해 알루미늄으로 구성됩니다. 또한 대용량 방열제 (heated resist) 요리를 장착하여 노출 내내 일관된 저항 온도를 유지하는 데 도움이됩니다. VERTEQ 1800-6AL 모델은 다양한 photolithography 응용 프로그램에 적합하며 프로세스 및 운영자 안전을 염두에두고 설계되었습니다. 장비의 주요 기능은 여러 프로세스 오작동 시 "fail-safe" 기능입니다. 이 기능을 사용하면 이러한 위험한 상황에서 시스템에 추가 손상이 발생하지 않을 수 있습니다 (영문). 이 장치는 또한 유지 보수 (maintenance-free) 기능을 제공하도록 설계되어, 서비스 수명 연장 (extended service life) 및 유지 보수 비용 최소화를 실현할 수 있습니다. 결론적으로, 1800-6AL 포토 esist 기계는 반복 가능한 고정밀 저항 전달 및 균일 한 노출 후 베이크 온도가 필요한 응용 분야에 이상적인 선택입니다. 공정 (process) 과 운영자 (operator) 안전 모두를 염두에 두고 설계되었으며, 직관적인 사용자 인터페이스와 fail-safe 기능을 제공하므로 고급 리소그래피 프로세스를 위한 완벽한 선택이 가능합니다.