판매용 중고 VERTEQ 1600 #9383555

VERTEQ 1600 (VERTEQ 1600) 은 유리, 웨이퍼, 샘플 등과 같은 기판의 안정적이고 효율적인 광석기 패턴화를 제공하도록 설계된 고급 포토레지스트 장비입니다. 레이저 기반 저항 처리 기술을 활용하여 반도체 프로세싱에서 높은 정밀 패턴 복제 및 균일성을 달성합니다. 1600은 20 년이 넘는 최첨단 연구 개발의 정점입니다. 설계자가 파형 (waveform), 스캐닝 속도 (scanning speed), 해상도 (resolution), 전원 (power), 펄스 폭 (pulse width) 등 다양한 매개변수의 정확한 제어를 통해 프로세스를 최적화할 수 있도록 구성 가능한 플랫폼을 갖추고 있습니다. 이 시스템은 고급 포토리스토그래픽 (photolithographic) 및 컴퓨터 제어 기능이있는 특허받은 듀얼 빔 (dual beam) 쓰기 장치를 사용하여 원활한 제작을 지원합니다. 이 배치는 고속 (High Speed) 프로세스 속도와 업계에서 사용 가능한 최고 정밀도를 허용합니다. VERTEQ 1600에는 고속 마이크로미터 간격, 레이저 구동 스캔 헤드 2 개가 장착되어 있으며 고급 정렬 안정성 및 분석 기능이 제공됩니다. AFR (Automated Feature Recognition Machine) 은 복잡한 정렬 알고리즘을 자동화하도록 설계되었으며, 패턴과 위치를 적절히 인식 할 수 있습니다. 1600 년에 사용 된 포토 esist 물질은 저비용, 수용성 폴리머 물질로, 깨끗하고 빠른 적용 및 청소 과정을 가능하게합니다. 이렇게 하면 높은 처리량과 반복 가능성과 더 높은 수율을 얻을 수 있습니다. 이 도구는 또한 자체 사용자 인터페이스 (user interface) 를 갖추고 있어 운영자 (operator) 나 시스템의 직접 모니터를 통해 제어할 수 있습니다. VERTEQ 1600 의 경우, 운영자는 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 조정할 수 있으며, 프로세스 제어를 원활하게 일관되게 수행할 수 있습니다. 1600은 평균 크기 기판의 소형 배치 (small batch) 또는 고가 기판의 정밀 처리를 위한 탁월한 선택입니다. 견고한 설계와 빠른 처리량 (fast throughput) 을 통해 경제적이고 안정적인 솔루션으로, 기존 프로세스에 쉽게 통합할 수 있습니다.