판매용 중고 VERTEQ 1600-NSC #9366559

ID: 9366559
웨이퍼 크기: 4"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4".
VERTEQ 1600-NSC (VERTEQ 1600-NSC) 는 반도체 및 기타 집적 회로 장치에서 고정밀 기능을 만드는 데 사용되는 차세대 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 고정밀 마스크 정렬기, 노출 소스, 화학 가공 장비 등을 포함하는 모든 기능을 갖춘 플랫폼입니다. 결과적으로, 향상된 운영 용량, 안정성, 비용 절감을 위한 다양한 기능을 제공합니다. 1600-NSC는 0.3 미크론 정밀도로 작동 할 수있는 정확한 5 축 마스크 정렬기를 특징으로하여 고수율 부품으로 변환되는 높은 정확도 정렬 및 제어를 보장합니다. 이 장치는 또한 빠르고 신뢰할 수있는 노출 된 웨이퍼 속도를 제공하는 고주파 램프 노출 소스를 사용합니다. 고급 포토레시스트 (photoresist) 옵션을 사용하면 원하는 광학 특성을 가진 저항을 선택할 수 있으며, 이를 통해 고대비 (high contrast) 기능을 사용할 수 있습니다. VERTEQ 1600-NSC 내의 화학 가공 기계 (chemical processing machine) 는 안전하고 효율적인 방식으로 포토 esist를 제거 할 수 있으며 건식 에찬트, 수용성 솔루션 및 비활성 가스와 같은 다양한 화학 물질을 보관합니다. 또한이 도구는 딥 트렌치 에칭 (deep trench etching) 또는 비아 필 (via fill) 과 같은 다중 계층 프로세스 기술을 지원하며 포토 리토 그래피, 연마 및 에칭 중 열 스트레스를 줄이기 위해 웨이퍼의 효율적인 냉각을 제공합니다. 1600-NSC는 반도체 장치와 같은 정밀 기반 제조에 적합합니다. 모든 자산 구성요소 (Asset Component) 의 조합은 높은 처리량 (Throughput) 과 짧은 주기 (Short Cycle) 를 보장하는 데 도움이 되고, 고객의 생산비를 절감하고 부품의 전반적인 품질을 향상시키는 안정적이고 다양한 모델을 제공합니다.
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