판매용 중고 VERTEQ 1600-55M #9245629

VERTEQ 1600-55M Photoresist Equipment는 다양한 기판에 대한 photoresist 패턴화를위한 고급 photolithography 시스템입니다. 이 장치는 대형 기판의 노출뿐만 아니라, 고해상도 패턴을 10 m 아래로 노출시키는 최적의 솔루션입니다. LED 기반 광원을 사용하여 6 인치 활성 스캔 영역에서 일관된 조명 강도를 생성하는 정확한 노출 균일성 (exposure unifority) 과 해상도를 제공합니다. 광범위한 파장을 지원하며, 마스크 이미지의 원하는 파장과 편광기 (polarizer) 상태와 일치하는 사진 다이오드만 필터링합니다. 게르마늄, 실리콘, 갈륨 비소, 석영 등 여러 기질 물질과 호환됩니다. 1600-55M에는 photoresist development mode, auto alignment mode, multiple exposures mode, image adjustment mode 등 5 가지 사용자 친화적 운영 모드가 있어 사용자가 원하는 설정을 쉽게 구성하고 조정할 수 있습니다. 포토레시스트 개발 모드 (photoresist development mode) 는 패턴화하기 전에 기판을 준비하며, 자동 정렬 모드 (auto alignment mode) 는 정확한 노출을 위해 기판을 자동으로 정렬합니다. 다중 노출 (multiple exposure) 모드는 동일한 기판에서 서로 다른 패턴의 동시 노출을 지원합니다. 또한 이미지 조정 모드는 패턴 매개 변수를 세밀하게 제어합니다. VERTEQ 1600-55M에는 패턴 해상도를 최대 10 m까지 제공하는 프로그래밍 가능한 정밀 스캐닝 머신이 있습니다. 정확한 광학 패턴화를 위해 미세 튜닝 노브로 프로그래밍 가능한 초점과 플로팅 속도가 있습니다. 마스크 이미지를 정확하게 정의하기 위해 고해상도 CCD 카메라가 장착되어 있습니다. 또한 1600 ~ 55M 은 내장형 마스크 라이브러리와 실시간 자동 초점 (auto-focus) 기능을 통해 각 노출에 맞게 빠르고 쉽게 도구를 설정할 수 있습니다. 또한, 에셋에는 모든 마스크가 기판과 정확하게 평행하도록 레벨 링 (leveling) 모델이 장착되어 있습니다. 장비에는 근접 센서 (근접 센서) 와 같은 고급 안전 기능 (advanced safety features) 이 있어 스캔한 이미지가 흐릿해지거나 진동으로 흐릿해지지 않도록 합니다. 또한, 이 시스템에는 사용자 프로그래밍 가능한 포맷과 사용 편의성과 효율적인 작동을 위한 사용자 친화적 제어판 (Control Panel) 이 있습니다. VERTEQ 1600-55M Photoresist Unit은 고해상도, 정밀 노출 균일성, 다양한 기능, 사용자 친화적 인터페이스를 통해 고해상도, 정밀한 사진 해설을 위한 최적의 솔루션을 제공합니다. 이 견고한 기계는 다양한 photoresist patterning application에 이상적인 선택입니다.