판매용 중고 VERTEQ 1600-55M #9241976

VERTEQ 1600-55M은 마이크로 일렉트로닉, 나노 스케일 디바이스 리소그래피 응용 분야의 사진 연주자를위한 다재다능하고 강력한 노출 장비입니다. 이 시스템은 포토 마스크 제작, MEMS, 반도체 장치 제작, 나노 스케일 패턴화, MEMS 제작 등 다양한 응용 프로그램에 대한 다양한 기능과 기능을 제공합니다. 1600-55M은 6 인치 척과 55 마일의 Lithographers Resolution Field를 사용하여 정확하고 신뢰할 수있는 결과를 얻습니다. 척 (chuck) 의 표면은 예외적 인 평탄성을 위해 평면화되어 있으며, 패턴 노출의 균일성과 정확성을 최적화하기 위해 균일 한 기판을 만듭니다. 또한, 이 장치에는 이미지를 기판에 정확하게 배치하고 전송하는 고정밀 X-Y 스테이지가 장착되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 특정 노출에 대한 정확한 이미지 등록이 가능하며, 포토레시스트가 균일한지 확인합니다. 이 기계는 또한 온보드 라이트 빔 포지셔너 (light-beam positioner) 를 갖추고 있으며, 사용자가 기판을 가로질러 이미지 프로젝터를 정확하게 정렬할 수 있습니다. 이렇게 하면 마스크 정렬이 정확해지고, 사용자가 한 웨이퍼 (wafer) 에서 다른 웨이퍼 (wafer) 로 이미지를 쉽게 맞출 수 있는 기능을 제공합니다. 이 툴은 혁신적인 소프트웨어 패키지로 구동되며, 이를 통해 이미지를 자동으로 저장, 검색, 분석할 수 있습니다. 이 패키지를 사용하면 자산을 빠르고 효율적으로 설정하고 운영할 수 있습니다. VERTEQ 1600-55M은 최고 수준의 노출 결과를 제공하도록 설계된 최첨단 UV LED 기반 노출 소스를 사용합니다. 이것은 254 nm의 방출을 갖는 짧은 파장 UV LED 소스이며, 이는 광전자 노출에 가장 적합한 파장입니다. 이것은 저용량에서도 광저항 노출에 대한 매개 변수의 반복성과 안정성을 가능하게합니다. 또한, 모델에는 photomask 응용 프로그램용 렌즈 옵션 또는 하위 밀리미터 해상도용 코어리스 렌즈 (core-less lens) 의 두 가지 렌즈 옵션이 있습니다. 코어리스 (Core-less) 렌즈에는 1mm 피쳐 크기의 해상도와 최대 45도의 스윙 각도가 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 1600-55M은 다양한 포토 esist 응용 프로그램에 이상적입니다.