판매용 중고 VERTEQ 1600-55A #9245630

ID: 9245630
웨이퍼 크기: 2"
Spin Rinse Dryer (SRD), 2" Power supply: 220 VAC, Single phase, 2 W, 50 A, 50-60 Hz, 2.10 kW.
VERTEQ 1600-55A Photoresist Equipment는 청소실 및 R&D 실험실 응용 프로그램을위한 고급 UV 리소그래피 이미징 도구입니다. 이 제품은 다양한 기판에 고정밀도, 미크론 정확도, 서브 미크론 (sub-micron) 구조를 만드는 문제에 대해 비용 효율적이고 안정적인 솔루션을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 통합 레이저 소스와 조절 가능한 광원 머신을 갖춘 레이저 이미징 장치 (Laser Imaging Unit) 를 갖추고 있습니다. 조정 가능한 광원 도구 (Adjustable Light Source Tool) 에는 파장, 전력, 노출 시간 등 다양한 조정 가능한 매개변수가 있으며, 이를 통해 사용자는 특정한 요구에 맞게 자산을 조정할 수 있습니다. 이 모델은 또한 프로세스를 제어하고 정확한 결과를 보장하기 위해 온보드 자동화 장비를 갖추고 있습니다. 시스템은 고급 UV 광원으로 구동되며, 최대 50mW/cm2를 표시할 수 있습니다. UV 광원은 크고 비용이 많이 드는 기존 노출 및 개발자 시스템의 필요성을 제거합니다. 이 장치는 최대 해상도 250nm로 고정밀 이미징 기능을 제공합니다. 이 기계는 다양한 포토레시스트 (photoresist) 를 지원하며 정교한 창 도구를 갖추고 있어 포토레시스트 (photoresist) 를 더 정확하게 적용 할 수 있습니다. 또한 윈도우 에셋을 사용하면 대용량 인쇄에 소요되는 시간을 줄일 수 있습니다. 혁신적인 웨이퍼 및 블로커 요소 모델을 사용하면 이송 속도 (feed rate) 또는 기판 공백 방향에 관계없이 일관된 결과를 유지할 수 있습니다. 1600-55A Photoresist Equipment (Photoresist Equipment) 는 또한 강력하고 내장된 소프트웨어 패키지를 갖추고 있어 작동이 쉽고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 또한 자동 노출 설정, 라이브 이미지 디스플레이, 리모콘 등 다양한 추가 기능을 제공합니다. VERTEQ 1600-55A Photoresist System은 견고하고 신뢰할 수있는 UV 리소그래피 툴로, 까다로운 미크론 정확하고 서브 미크론 구조를 생성하는 사용자에게 필수적입니다. 고급 레이저 이미징 장치 (Laser Imaging Unit) 와 조절 가능한 광원 머신 (Light Source Machine) 은 정확성과 안정성을 보장하는 반면, 정교한 소프트웨어 기능은 사용자에게 손쉬운 작동과 자동화를 제공합니다. 1600-55A Photoresist Tool은 소규모 생산에서 대규모 생산 요구에 이상적인 도구입니다.
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