판매용 중고 VERTEQ 1600-55A #293655504

VERTEQ 1600-55A (VERTEQ 1600-55A) 는 다양한 마이크로 일렉트로닉 응용을위한 포토 esist 재료를 개발하는 신뢰할 수 있고 정확하며 일관된 방법을 제공하는 고정밀 노출 장비입니다. 고해상도와 강력한 이미징 능력을 갖춘 이 시스템은 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 와 같은 포토리스 소재 (photolithography materials) 와 MEMS 및 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 에 대한 복잡한 설계 생산에 이상적입니다. 1600-55A는 포토 esist의 선명하고 선명한 이미지를 위해 매우 정밀한 4x5 "해상도의 강력한 2 단계 이미징 장치를 통합했습니다. 이 기계는 조정 가능한 UV 광도 50mW/cm2 ~ 370mW/cm2에서 광학 농도 범위 1.2 ~ 2.2로 작동합니다. 게다가, 이 도구 는 "에너지 '소모 를 최소화 하고, 노출 과정 중 에 사용 할 수 있는" 에너지' 를 효율적 으로 이용 하도록 설계 되었다. 또한, 에셋은 정밀하고 균일 한 등록 및 이동 제어를 위해 전자 잉크 제트 장치 (electronic ink jet unit) 와 자동 웨이퍼 단계 (automated wafer stage) 를 갖추고 있습니다. VERTEQ 1600-55A는 이미지 처리 작업을 쉽게 수행할 수 있도록 포괄적인 소프트웨어 제품군도 제공합니다. 사용자는 이 소프트웨어를 사용하여 노출 시간, UV 광도, 웨이퍼 스테이지 이동 등의 프로세스 매개변수를 손끝으로 정의할 수 있습니다. 또한, 소프트웨어를 사용하여 사용자가 자주 사용하는 다양한 레시피를 미리 설정하고, 모니터링 및 디버깅 목적을 위해 실시간 프로세스 상태 (real-time process status) 를 액세스할 수 있습니다. 또한, 이 모델에는 이미징 매개변수를 쉽게 액세스하고 제어할 수 있는 직관적인 사용자 인터페이스 (user interface) 가 장착되어 있습니다. 1600-55A는 photoresist 응용 프로그램을 위해 고정밀도 및 견고한 이미징 솔루션을 제공합니다. 고해상도, 강력한 이미징 기능을 갖춘 고급 이미징 장비는 선명하고 선명한 포토레지스트 (photoresist) 이미지를 개발할 수 있는 탁월한 방법을 제공합니다. 또한, 종합 제어 소프트웨어를 통해 VERTEQ 1600-55A는 포토 esist 물질에서 마이크로 일렉트로닉 디자인을 생산하기위한 안정적이고 균일 한 이미징 프로세스를 보장합니다.