판매용 중고 VERTEQ 1600-33 #293592109

VERTEQ 1600-33은 기술 및 통신 응용 프로그램에서 정확한 micro-thirds 회로 패턴을 생산하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 기존의 포토 마스크 (photomask) 와 작동하고 정확한 마이크로-3 중 이미지 패턴을 생성하기 위해 저항하는 광학 처리 워크스테이션입니다. 1600-33에는 7 인치 고해상도 TFT LCD 디스플레이와 정밀 전동 광 처리 단계가 포함되어 있습니다. 이 시스템에는 스마트 이미지, 전처리 처리 모드, 자동 정렬, 고급 반음계 초점 기능을 갖춘 고성능 옵티컬 프로세서도 포함되어 있습니다. 이 장치는 전체 다중 패턴 정렬 기능을 통해 빠르고 정확한 이미지 전송을 지원합니다. VERTEQ 1600-33 (VERTEQ 1600-33) 은 고급 기술을 사용하여 포토리스 (photoresist) 패턴을 생성합니다. 이 패턴은 패턴을 만들기 위해 대상 재료를 빛에 노출시키는 과정을 사용합니다. 빛은 대상 재료 (target material) 를 중합하고 사용하는 포토 마스크 (photomask) 의 디자인을 반사하는 패턴을 만드는 데 사용됩니다. 1600-33에 사용 된 광원은 405nm 레이저입니다. VERTEQ 1600-33은 또한 사용자에게 선택할 수있는 저항 (resist) 기술을 제공합니다. 여기에는 SU-8, AZ-1512, Urrez-1315, Perchem NP-223 및 ENI 04-1549 저항이 포함됩니다. 이러한 저항은 다양한 응용 프로그램에 대해 다양한 이미지 패턴 (image pattern) 을 만드는 데 사용될 수 있습니다. 또한, 1600-33 (1600-33) 은 사용자가 패턴 재생산의 정확성을 보장하기 위해 여러 프로세스 보조를 제공합니다. 여기에는 여백 컨트롤, 자동 노출 및 자동 초점, 슬라이딩 샘플 스테이지가 포함됩니다. 이러한 기능을 추가하여 사용자는 최소 시간 (시간) 과 최대 정밀도 (정밀도) 로 정확한 3 차 (micro-thirds) 패턴을 만들 수 있습니다. 전반적으로 VERTEQ 1600-33 (VERTEQ 1600-33) 은 다양한 재료에서 정확한 micro-thirds 이미지 패턴을 생산하는 데 필요한 도구를 제공하는 우수한 포토리스 (photoresist) 기계입니다. 고성능 옵틱, 고정밀 프로세싱, 사용자 친화적 인터페이스로, 정확한 3 분의 1 회로 패턴을 생산하려는 모든 회사에 이상적인 선택입니다.