판매용 중고 VACUUM DEVICE MSP-1S #293597453

VACUUM DEVICE MSP-1S Photoresist System은 전자 제품 제조 산업의 사진 분석 작업을 용이하게하도록 설계된 자동 장치입니다. 이 장치는 전통적으로 포토마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 만드는 데 필요한 시간 소모적이고 노동 집약적인 프로세스에 효과적인 솔루션을 제공합니다. 이 장치의 핵심 성분은 진공 증착 챔버 (vacuum deposition chamber) 로, 얇고 균일 한 광전 물질 층을 기판 표면에 침전시키는 데 사용됩니다. 챔버 (chamber) 는 석영 창 (quartz window) 으로 구성되어 빛을 통과시켜 기판 표면에 노출 될 수 있습니다. MSP-1S는 또한 광원 (일반적으로 UV 램프 또는 레이저) 을 통합하여 최적의 노출 강도에 맞게 조정합니다. 이 장치에는 조명 영역 위의 기판을 정확하게 정렬하기위한 매핑 단계 (mapping stage) 도 포함되어 있습니다. 이를 통해 프로세스의 여러 지점에서 기판을 정확하게 노출 할 수 있습니다. 매핑 단계 (mapping stage) 를 사용하면 한 번에 여러 마스크를 단일 기판에 매핑할 수 있으므로 처리량을 높이고 주기 시간을 줄일 수 있습니다. 또한 VACUUM DEVICE MSP-1S는 자동 또는 반자동 모드에서 실행할 수 있습니다. 반자동 (semi-automatic) 모드는 즉석 조정을 허용하며 프로토타입 및 실험에 유용하며, 완전 자동화 (fully automated) 모드는 프로덕션 실행에 최적화되어 있습니다. 자동화 모드 (automated mode) 는 인건비가 적으며, 운영자 수가 적기 때문에 속도가 빠르고 경제적입니다. 마지막으로, MSP-1S 는 프로세스 안전 및 환경 규정에 대한 포괄적인 안전 기능을 제공합니다. 이 장치는 운영자에 대한 부상 위험을 줄이기 위해 설계되었습니다. 즉, 보다 낮은 전력으로 실행됩니다. 또한, 공기 순환 장치 는 안전 한 처분 을 위해 위험 한 "가스 '를 제거 하고 수집 한다. 전반적으로, VACUUM DEVICE MSP-1S Photoresist 시스템은 포토 마스크 및 웨이퍼 생산에 효율적이고 비용 효율적인 솔루션을 제공하는 고급 장치입니다. 이 장치는 정밀도, 정확성, 반복성을 갖춘 여러 기판을 자동으로 처리할 수 있습니다. 또한 전통적인 사진 분석 방법에 대한 안전하고 친환경적인 대안을 제공합니다.