판매용 중고 ULTRON UH 104 #9396611

울트론 UH 104 (ULTRON UH 104) 는 유리, 세라믹 및 금속과 같은 다양한 기질의 정밀 에칭 및 에칭을 가능하게하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 고해상도와 더불어 포토레시스트 (photoresist) 구성의 폭이 넓어 고해상도 광석기 제작 (photolithographic fabrication) 공정을 수행하기 위한 완벽한 시스템이다. 이 장치는 기판, 사진 마스크 및 코팅 프로세스로 구성됩니다. 기판은 photoresist가 적용되는 기본 레이어입니다. 포토 마스크 (photo-mask) 는 원하는 패턴의 모양과 크기를 고정하는 투명 템플릿입니다. 코팅 공정 (coating process) 은 광전자가 기판에 적용 된 것으로, 빛은 사진 마스크를 통해 빛나고 광전자는 빛이 빛나는 곳마다 노출된다. 결과는 기판의 에칭 패턴입니다. UH 104 머신은 음의 감광제 (photoresist) 를 사용하는데, 이는 용해되어 빛에 반응하는 감광 물질이다. 기질은 음의 포토 esist로 코팅되고, 포토 마스크는 photoresist 위에 배치된다. 빛은 포토 마스크 (photo-mask) 를 통해 빛나고, 어디를 통과하든지 포토 esist는 용해됩니다. 그러면 나머지 영역이 생성된 패턴이 됩니다. ULTRON UH 104는 기판에서 에칭하기에 매우 정확합니다. 고해상도를 사용하면 정밀도, 세부적인 에치 패턴을 만들 수 있습니다. 도구는 또한 코팅 두께 제어 에셋을 가지며, 이는 기판의 균일성을 보장합니다. 이 장치는 기판에 적용된 photoresist 레이어의 균일성을 제어하여 정확한 에칭을 활성화합니다. UH 104는 모듈식 디자인과 사용자 친화적 인 소프트웨어 때문에 사용하기 쉽습니다. 사용자는 이 소프트웨어를 사용하여 원하는 에치 패턴 (예: 선 너비, 레이어, 노출 시간) 에 대한 매개변수를 쉽게 조정할 수 있습니다. 이 모델에는 사용자 친화적 인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 가 있어 Photolithography 구성 설정에 도움이 됩니다. ULTRON UH 104는 다양한 photolithography 제작 요구에 적합한 도구입니다. 정확도, 사용자 친화적 설계, 고해상도 기능으로 정확도가 높은 에칭 및 에칭을 위한 완벽한 장비입니다.