판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 130 #9123400

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130은 초소형 집적 회로의 석판화 생산에 사용되는 고성능 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 저항 응용 프로그램 및 개발 장치, 이미징 장치, 스캐너 장치, 컴퓨터 제어기, 폐기물 제거 스테이션 (Waste Removal Station) 등 여러 구성 요소로 구성됩니다. 이 공구는 광파 (light wave) 와 자외선 (ultraviolet radiation) 에 노출되는 실리콘 또는 유리 기판에 이미지를 생성하도록 설계되었습니다. 저항제 적용 및 개발 장치 (resist application and development unit) 는 저항제를 액체, 증기 또는 반 고체 형태로 유지하는 챔버를 특징으로합니다. 그 다음, 이 챔버 (chamber) 는 질소 블로우 오프 챔버 (blow-off chamber) 를 사용하여 과잉을 제거하면서 저항제 코팅을 기판에 균등하게 적용 할 수 있습니다. 이미징 장치는 2 개의 광학 큐브 (4 플렉스 및 6 플렉스) 를 사용하여 빛파를 기판에 집중시킵니다. 이 노출은 photoresist 레이어에서 미리 결정된 노출 패턴을 만들 수 있습니다. 스캐너 에셋은 고속 스캐너 헤드 (scanner head) 를 사용하여 영상 장치 주위의 기판을 이동합니다. 이 모델은 300 나노 미터 기능을 해결할 수 있으며 초당 최대 25 센티미터 (25 센티미터) 의 노출 속도를 허용합니다. 컴퓨터 제어 장비 (Computer Control Equipment) 는 사용자가 편리하게 설치하고 노출 매개변수를 조정할 수 있는 GUI를 통해 시스템을 정확하게 작동시킬 수 있도록 합니다. 마지막으로, 폐기물 제거 스테이션 (Waste Removal Station) 은 공기 오염 물질뿐만 아니라 과도한 저항 물질을 제거하여 장치의 높은 수준의 청결을 보장합니다. 전반적으로 USI UH 130 Photoresist Machine은 초소형 집적 회로의 리소그래피 생산에 사용되는 강력하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 툴은 높은 수준의 정밀도 (Precision) 와 정확도 (Accurity) 로 성능을 발휘할 수 있으며, 간단한 GUI 를 통해 쉽게 설치 및 작업을 수행할 수 있습니다. 초소형 집적회로를 생산하고자 하는 분들에게는, 이 자산이 이상적인 선택입니다.