판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 130 #9096008

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 130은 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 사용자에게 최고 수준의 리소그래피 (lithography) 기능과 초고해상도 이미징 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 이 장치의 주요 구성 요소는 Novelon-TM Multi-Layer Resist and Machine Controller로, 노출 수준, 해상도 및 반복 가능성을 정확하게 조정할 수 있습니다. 이 포토 esist 도구는 또한 고해상도 광학과 이미징 자산을 갖추고 있습니다. 사용되는 광학에는 1.2 미크론 픽셀 피치와 해상도가 기존 광학 리소그래피 시스템보다 높은 초고해상도 마스크 (Ultra-High Resolution Mask) 와 페어링 된 높은 NA 광학 열이 포함됩니다. 이미징 모델은 여러 개의 저항 레이어를 동시에 표시할 수 있으며, 따라서 사용자가 높은 정확도로 금속, 반도체 또는 다중 레이어 저항 패턴을 만들 수 있습니다. 이미징 장비는 또한 컴퓨터 제어 동력 플랫폼과 통합됩니다. 이 플랫폼을 통해 사용자는 기판을 쉽게 배치, 이동, 회전시킬 수 있으며, 기판의 무결성을 유지하면서 원하는 정렬을 쉽게 얻을 수 있습니다. USI UH 130 은 고해상도 옵틱 (optic) 과 이미징 외에도 자동화된 노출 및 샘플링 기능을 제공하는 고급 소프트웨어 프로그램과 사전 설정된 (pre-set) 노출 레시피 라이브러리가 내장되어 있습니다. 이 프로그램을 사용하여 다양한 재료 및 프로세스 요구사항에 대한 노출 시퀀스 (Exposure Sequence) 를 사용자정의할 수 있습니다. ULTRON SYSTEMS INC UH 130은 반도체 및 인쇄 회로 기판 산업에 광범위한 응용 분야를 보유하고 있습니다. 이 시스템은 via 플러그, multi-layer resist features, high-aspect ratio holes 및 high resolution line width와 같은 패턴을 만드는 데 사용할 수 있습니다. 다재다능한 이미징 유닛은 오버프레이가 적어 인쇄 회로 기판 (printed circuit board) 생산에 적합합니다. 결론적으로, UH 130은 최상위 리소그래피 기능과 고해상도 이미징을 찾는 사용자에게 이상적인 선택입니다. 이 기계의 고급 전동 플랫폼, High-NA Optics 및 Automated Exposure and Sampling 기능은 안정적이고 매우 정확한 photoresist 툴입니다.