판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9292713

ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114
ID: 9292713
웨이퍼 크기: 6"
Wafer mounter, 6"
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114는 모든 기능을 갖춘 포토 esist 장비입니다. 고급 패턴화 기능, 높은 처리량 성능, 프로세스 제어 정확도 등의 기능을 제공합니다. 포토리스 (photoresist) 시스템은 또한 자동 액체 처리 기능과 통합 분석 도구를 사용하여 원하는 해상도와 패턴 정밀도를 달성합니다. 광저항 장치 (photoresist unit) 는 설계 된 레이아웃의 에너지 패턴을 기판 표면으로 전송함으로써 작동합니다. 그런 다음, "머신 '은 그 기판 을 변조 된 고강도 광선 의 광선 에 노출 시켜, 기판 의 표면 에 원하는" 패턴' 을 만든다. 전자빔 소스와 제어 도구에 연결된 LED (Light Emitting Diode) 어레이에 의해 광선이 생성됩니다. 그 다음 "빔 '은" 빔' 을 기판 표면 에 집중 시키는 방식 으로 분산 시키는 광학 자산 에 의하여 인도 된다. 광전자 (photoresist) 모델은 미세 전자 장치 및 회로의 정확하고 반복 가능한 패턴을 가능하게하도록 설계되었습니다. 또한 광도, 시간 및 공간 정확도, 강도 변조에 대한 정확한 제어 (control of light intensity) 로 인해 매우 높은 해상도의 이미징 기능을 제공합니다. 포토레시스트 (photoresist) 장비는 복잡한 장치를 정확하게 3D 패턴화할 수 있는 다중 레이어 프로세스를 포함한 다양한 패턴화 (patterning) 옵션을 갖추고 있습니다. 또한, 시스템은 회로 (circuitry) 및 레이아웃 복잡도 (layout complexity) 유형에 따라 다양한 리소그래피 프로세스에서 사용될 수 있습니다. 또한 photoresist 단위는 처리량 성능, 모서리 정의, 오버레이 정확도, 패턴 충실도 측면에서 고성능 결과를 자랑합니다. 이 제품은 안정성이 높도록 설계되었으며, 다양한 기판과 호환됩니다. 전반적으로, USI UH 114는 고급 패턴화 옵션과 정확한 이미징 결과를 제공하는 첨단 포토 esist 기계입니다. 반도체산업 (반도체산업) 과 같은 많은 업종에서 가장 중요하다. 높은 정밀도, 정확도 등이 가장 중요하다.
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