판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #9262847

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114는 마이크로 전자 부품 제조를 위해 설계된 고급 포토 esist 장비입니다. 광전자 시스템은 빛을 사용하여 반도체 재료의 회로 패턴 에칭을 제어합니다. USI UH 114는 자외선, 가시적, 근적외선 레이저 노출이 가능하므로 정확도, 정밀도, 높은 처리량으로 복잡한 회로 설계를 만들 수 있습니다. ULTRON SYSTEMS INC UH114 는 배치 처리에 최적화되어 있으며, 단시간 (cycle time), 처리량 (high throughput), 자동 프로토콜 (automated protocol) 을 통해 운영 작업을 처리할 수 있습니다. 경로의 수차에 맞게 조정하는 프로그래밍 가능한 자동 수정 (auto-correction) 기능을 사용하여 완벽한 반복성과 일괄 처리 (batch-to-batch) 일관성을 보장합니다. 이 시스템은 자동화된 엔드 투 엔드 (end-to-end) 및 인라인 (in-line) 작업과 자동 웨이퍼 정렬 및 패턴 데이터 매핑을 통해 효율적인 웨이퍼 처리가 가능합니다. 이 장치에는 과잉 노출 감지 (over-exposure detection), 노출 매개변수 조정 (calibration of exposure parameters) 및 노출 매개변수 설정 (set-up of exposure parameters) 과 같은 고급 프로세스 제어 기능이 장착되어 있습니다. 또한, 이 도구는 다양한 포토레지스트 (photoresist) 재료를 처리하도록 설계되었으며, 양성 및 음성 포토레지스트 (photoresist) 재료와 호환됩니다. 이를 통해 사용자는 어려움 없이 사용자 정의 패턴과 컴포넌트를 만들 수 있습니다. 마지막으로, USI UH114는 안전성과 신뢰성을 염두에 두고 구성됩니다. 레이저 안전 인터 록 (Laser Safety Interlock) 과 오염을 방지하는 최첨단 청소 프로세스를 갖추고 있습니다. 또한, 에셋은 높은 진동 댐핑 마운트 (damping mount) 로 설계되어 노출 중 정확성을 보장하고 패턴 데이터가 잘못 정렬되지 않도록 합니다. 결론적으로, UH 114는 일괄 처리에 최적화되어 다재다능하고, 매우 정확한 포토 esist 모델입니다. 첨단 프로세스 제어 장비 (Advanced Process Control Equipment) 는 반복성과 일괄 처리 (Batch-to-Batch) 일관성을 보장하며, 다양한 포토레시스트와의 호환성은 복잡한 컴포넌트 생산에 적합합니다. 고급 청소 공정 (advanced cleaning process) 과 함께, 그 안전성 기능은 제품이 최고 품질의 제품인지 확인합니다.