판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114 #293775384

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114는 반도체 및 마이크로 전자 산업의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계된 최첨단 포토레시스트 (photoresist) 장비입니다. 이 고급 시스템은 정확한 패턴화 (patterning) 및 리소그래피 (lithography) 프로세스를 위한 포괄적인 솔루션을 제공하여 기판의 고성능 이미징 및 미세 구조물을 매우 정확하고 반복 가능하게 합니다. USI UH 114 photoresist unit의 주요 특징 중 하나는 photoresist 물질의 정확한 제어 및 조작입니다. 광저항 물질 (photoresist) 은 빛에 노출되면 물리적 또는 화학적 변화를 겪는 빛에 민감한 물질이며, 일반적으로 패턴을 기판으로 전달하기 위해 광석판 처리 (photolithography process) 에 사용됩니다. ULTRON SYSTEMS INC UH114 머신에는 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 또는 유리 플레이트 (glass plate) 와 같은 다양한 유형의 기판에 포토 esist 물질을 균일하고 일관되게 적용 할 수있는 고급 분배 및 코팅 메커니즘이 장착되어 있습니다. 포토레시스트의 증착에 대한 이러한 정확한 제어는 고해상도 (high-resolution) 및 고품질 (high-quality) 패턴화 결과를 달성하는 데 중요합니다. 또한, ULTRON SYSTEMS INC UH 114 도구는 자외선 (UV) 또는 심자외선 (DUV) 램프와 같은 고급 광원을 사용하여 광사 코팅 된 기판을 선택적으로 노출시키는 정교한 노출 모듈을 특징으로합니다. 노출 모듈은 광도 (light intensity), 노출 시간 (exposure time), 정렬 정확도 (alignment accuracy) 와 같은 노출 매개변수를 정확하게 제어하여 원하는 패턴화 해상도와 충실도를 제공합니다. 또한, 에셋에는 고해상도 투영 마스크 정렬기 (high-resolution projection mask aligner) 가 장착되어 서브 미크론 정확도에서 기판과 함께 photomask를 정렬하여 photoresist-coated 표면에 패턴을 정확하게 전달할 수 있습니다. USI UH114 모델은 포토 esist 증착 및 노출에 대한 정밀 제어 외에도 고급 개발 및 에칭 기능을 제공합니다. 노출 후, photoresist-coated 기질은 photoresist의 노출되지 않은 영역을 선택적으로 제거하여 패턴 화 된 피쳐를 드러내는 개발 과정을 겪는다. UH114 장비에는 온도, 동요, 화학적 농도 등 중요한 매개변수를 제어하는 전용 개발 챔버 (development chamber) 가 장착되어 포토레스 패턴 (photoresist pattern) 의 균일하고 완전한 개발을 달성합니다. 또한, ULTRON SYSTEMS INC/USI UH114 시스템은 고급 에칭 기능을 통합하여 개발 된 패턴을 기본 기판 재료로 전달합니다. 습식 에칭 (wet etching), 건식 에칭 (dry etching) 또는 플라즈마 에칭 (plasma etching) 기술을 사용하든, 이 장치는 에치 레이트, 선택성 및 사이드월 프로파일을 정확하게 제어하여 기판 재료에 대한 최소한의 손상으로 높은 충실도 패턴화 결과를 얻을 수 있습니다. UH 114 머신의 에칭 (etching) 프로세스는 높은 처리량 및 반복성에 최적화되어 반도체 제작 설비의 대량 생산 환경에 적합합니다. 전반적으로 ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114는 반도체 및 마이크로 전자 산업의 정확한 요구 사항을 충족시키기 위해 정밀도, 유연성 및 신뢰성을 결합한 최첨단 포토 esist 도구를 나타냅니다. USI UH 114 자산은 정확한 포토 esist 증착, 노출, 개발 및 에칭을위한 고급 기능을 통해 뛰어난 정확성과 균일성을 갖춘 고성능 미세 구조 및 장치를 제작할 수 있습니다.