판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114-8 #293766851

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114-8은 정밀 에칭 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 플랫 및 원통형 리소그래피 패턴 모두에 사용됩니다. 복수 단계 리소그래피 프로세스 (multiple step lithography process) 를 사용하여 복잡한 패턴과 모양을 정밀하게 에치하는 기능이 있습니다. USI UH 114-8 (USI UH 114-8) 은 광원과 마스크를 사용하여 광원 (photoresist) 을 통과하고 기판에 배치하는 광원 (photoresist) 에 광원을 전달합니다. 빛은 원치 않는 부품의 잔재가 제거됨에 따라 포토레시스트 (photoresist) 패턴을 형성합니다. 울트론 시스템즈 (ULTRON SYSTEMS INC) UH 114-8 (UH 114-8) 은 내구성과 안정적인 플랫폼을 갖추고 있으며, 빛의 부드러운 동작과 결합하여 복잡한 모양과 패턴을 정확하고 신뢰할 수 있습니다. 이 장치는 여러 사진 연주자 (photoresist) 와 다양한 모양과 크기를 기본적으로 지원하므로 리소그래피 (lithography) 공정에 적합한 선택입니다. 각 "포토레지스트 '는 각기 다른 정밀 에칭" 응용프로그램' 에 사용 되도록 설계 되어 있으며, 따라서 기계 는 거의 무한 한 "에칭 '을 만들어 내도록 조정 될 수 있다. 또한 더 높은 정밀도 에칭을 위해 여러 포토 esist를 레이어하는 기능이 있습니다. UH 114-8은 또한 온도 및 습도 반응성을 특징으로하며, 각 석판화 공정으로 더 일관되고 정확한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 도구는 표준 화학 및 건조 처리 (dry processing) 솔루션과도 함께 사용할 수 있으므로, 재료 비용에 대한 추가 투자 없이도 고품질 이미지를 생성할 수 있습니다. 또한 ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114-8은 다른 포토 esist 시스템과 비교할 때 견고성, 안정성 및 낮은 유지 관리를 제공하여 정밀 에칭을위한 비용 효율적인 솔루션입니다. 또한 안정적이고 내구성이 있으므로 일관성 있고 고품질 에칭이 가능합니다. 전반적으로 USI UH 114-8은 정밀도, 정확성 및 사용 편의성이 필요한 리소그래피 응용 프로그램에 이상적인 선택입니다. 복잡한 패턴과 모양을 복잡한 디테일로 에칭 (etch) 하는 기능은 모든 정밀도 에칭 (etching) 프로세스에 적합한 옵션입니다. 내구성과 안정성은 다양한 포토레시스트 (photoresist) 솔루션 및 표준 프로세스 솔루션과 함께 ULTRON SYSTEMS INC UH 114-8을 업계를 위한 비용 효율적이고 안정적인 솔루션으로 만듭니다.