판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 114-8 #293651534

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114-8은 마스크 메이킹 및 회로 응용 분야에 이상적인 고해상도, 고밀도, 산업용 포토 esist 장비입니다. 서브 미크론 기능으로 포토 esist 처리에 대한 최고 수준의 정확성과 속도를 제공합니다. 이 시스템은 기판 마스크에 대한 정확한 초점을 유지하기 위해 가변 초점 거리 (variable focal length) 로 설계된 레이저 노출 헤드 (laser expose head) 를 특징으로합니다. 고해상도 광학 인코더는 레이저 헤드를 미크론 공차 내에 정확하게 배치하는 데 사용됩니다. 이 장치에는 또한 포토 esist 재료의 흥분 주파수 (excitation frequency) 보다 훨씬 낮은 주파수에서 펄스되는 강력한 UV 레이저 (UV Laser) 가 포함되어 있어 사이클 시간이 짧은 고품질 노출이 가능합니다. 프로그램 가능한 출력 범위 (5-1500mJ) 로, 이 기계는 까다로운 생산 요구 사항을 충족시키기 위해 노출 설정을 쉽게 수정할 수 있는 유연성을 제공합니다. USI UH 114-8의 화학 처리 기능은 뛰어난 클린 룸 호환성, 화학 저항 및 빠른 반응 시간을 제공하도록 설계되었습니다. 이 도구에는 가장 어려운 포토리스 (photoresist) 응용 프로그램을 처리하도록 설계된 업데이트 된 화학 전달 자산이 있습니다. ULTRON SYSTEMS INC UH 114-8은 인라인 밀도 감지, 자동 균일 제어, 노출 후 베이크 모델 및 통합 냉각 장비와 같은 뛰어난 기능을 제공합니다. 다양한 프로세싱 옵션과 통합을 통해 고해상도 (High Resolution), 고정밀도 (High Precision), 빠른 처리 시간이 필요한 모든 애플리케이션에 적합한 솔루션입니다. 최고 수준의 품질과 생산성을 보장하기 위해 UH 114-8 (UH 114-8) 은 온도 및 습도 제어에 대해 철저한 테스트를 거쳤으며, 각 애플리케이션에 대해 최적의 성능을 제공하도록 보정되었습니다. 또한, 양성 (positive) 및 음성 광사 (negative photoresist) 및 사진 영상 시스템을 포함한 다양한 포토 esist 재료와 호환됩니다. ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 114-8은 모두 고해상도 정확도와 최소 주기 시간이 필요한 어플리케이션에 이상적인 고급 포토 esist 시스템입니다. 고품질 (Optic), 정밀 제어 장치 (Precision Control Unit) 및 뛰어난 화학적 호환성은 가장 까다로운 회로 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.