판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 110 #9394210

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 110은 고정밀 리소그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 프로세스의 다양한 단계에서 다양한 고급 리소그래피 (lithography) 기술을 결합한 독점 리소그래피 (lithography) 기술을 사용합니다. 포토 esist 단위는 deep-UV, near-UV 및 vacuum-UV 노출과 같은 석판 공정에 사용될 수 있으며, 미세 피치 구조를위한 고해상도 이미징 기능이 있습니다. 포토레스 장치 (photoresist machine) 는 뛰어난 해상도를 제공하며, 뛰어난 해상도, 높은 명암비 및 뛰어난 에칭 특성으로 인해 마이크로 옵틱 (micro-optics) 및 MEMS 구성 (MEMS fabrication) 과 같은 고급 기술에 특히 적합합니다. 다른 사진작가보다 성능이 향상되어, 해상도가 높은 이미지와 프로세스 윈도우가 더 넓어집니다 (영문). 이 도구는 3 차원 구조를 제공하며, 여기서 10-20nm 정도의 작은 기능을 고정밀도로 만들 수 있습니다. 저항이 매우 얇은 프로파일 두께를 가지며, 이 두께를 정확하게 제어할 수 있어 프로파일의 모양과 성능을 보다 효과적으로 제어할 수 있습니다 (영문). 자외선 (UV Light) 에 대한 감도가 높아 현실적으로 보이는 기능을 만드는 데 유용한 대비를 제공합니다. USI UH 110 은 컴팩트형으로 설계되었으며, 전체 성능을 향상시키고 비용을 절감할 수 있는 통합 구성 요소 패키지를 제공합니다. 또한, 자산은 사용자 정의가 용이하여 고객의 특정 애플리케이션을 위해 기존 석판화 (lithography) 시스템에 쉽게 통합할 수 있습니다. 이 모델은 또한 종횡비 (Aspect Ratio Tolerance) 가 높아 피쳐를 더 잘 정렬하고 리소그래피 성능을 향상시킬 수 있습니다. 또한, 에치 저항성이 강하며 더 두꺼운 프로파일로 인해 밴딩 또는 비 균일 한 패턴화가 없습니다. 또한 일반적인 포토 esist 용매에 대한 뛰어난 내성을 가지고 있습니다. 전반적으로 ULTRON SYSTEMS INC UH 110은 마이크로 옵틱 (micro-optics) 및 MEMS 제작 (MEMS fabrication) 과 같은 리소그래피 응용 프로그램에 탁월한 성능을 제공하는 고성능 포토리스트 장비입니다. 뛰어난 해상도, 높은 명암비, 뛰어난 에칭 특성 때문에 다양한 리소그래피 (lithography) 프로세스에 이상적인 시스템입니다. 또한 고객의 고유한 요구 사항을 충족할 수 있는 최상의 성능을 제공하는 데 매우 편리하고 사용자 편리하게 사용할 수 있습니다 (영문).