판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 108 #9394207

ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 108은 광전자 장비에 사용하기 위해 포토 마스크 및 석판판을 생산하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 40 와트 소스가있는 875 nm 레이저 다이오드 또는 35 와트 소스가있는 633 nm 레이저로 구성됩니다. 이 시스템은 최대 1 미크론의 차원 정밀도를 달성 할 수 있으므로 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 및 장치 피쳐 (device feature) 크기가 필요한 응용 프로그램에 적합합니다. 포토 esist 유닛에는 사용 가능성을 향상시키는 몇 가지 기능이 있습니다. 자동 웨이퍼 처리 장치 (automated wafer handling machine) 를 사용하여 최대 200mm 크기의 웨이퍼를 빠르게 로드 및 언로드할 수 있습니다. 이 도구에는 또한 레이저 다이오드의 적절한 온도 범위를 유지하는 다이오드 레이저 냉각 서브시스템 (Diode Laser cooling Subsystem) 과 안정적이고 안정적인 작동을 위해 솔리드 스테이트 DC 전원 공급 장치 (Solid State DC Power Supply) 가 포함됩니다. photoresist 에셋에는 품질 이미징을 보장하기 위해 다양한 기능이 포함되어 있습니다. 여기에는 1.0 밀리초 단위의 펄스 너비를 조정할 수있는 PWM (Pulsed Width Modulation) 이 포함됩니다. 이렇게 하면 "레이저 '펄스 를 정확 하게 제어 하여 영상 의 정확도 와 반복성 이 향상 된다. 이 모델은 스플 라이스 효과 (splice effect) 없이 최대 1mm까지 다양한 필름 두께를 처리 할 수 있으므로 연속 (continuous) 패턴을 보장합니다. 이러한 기능 외에도 포토레지스트 (photoresist) 장비에는 설정과 작동에 도움이 되는 다양한 소프트웨어 패키지가 있습니다. 이러한 소프트웨어 패키지를 사용하면 사용자 정의 패턴을 메모리에 저장하고, 시스템에서 편집한 다음, 이미지 파일로 전송하여 사용 (use) 할 수 있습니다. 이를 통해 복잡한 포토 마스크 및 리소그래피 플레이트를 쉽게 만들 수 있습니다. 마지막으로, 포토레스 장치 (photoresist unit) 에는 ESD 접지 버스 사용, 모든 민감한 회로의 분리, 주변 빛을 감지하고 제어하는 필터 시스템 등 추가 안전 기능이 포함됩니다. 이 모든 기능을 통해 사용자는 안전하고 신뢰할 수 있는 머신을 사용할 수 있습니다. 즉, 고품질의 이미지를 생산하는 동시에 공기 (airborne) 미립자 (particulate) 및 정적 (static) 전기 손상으로부터 장비를 보호할 수 있습니다. 결론적으로, USI UH 108은 고해상도 이미징 및 장치 기능 크기가 필요한 어플리케이션에 이상적인 포토리스 (photoresist) 도구입니다. 자동화된 웨이퍼 처리 에셋 (Wafer Handling Asset) 과 레이저 냉각 서브시스템 (Laser Cooling Subsystem) 은 빠른 로드 및 언로드가 가능하며 고급 이미지 조작 기능은 뛰어난 이미징 정확성과 반복 기능을 제공합니다. 또한, 높은 수준의 기능 안전 (feature safety) 을 통해 모든 마이크로 전자 장치 구성 응용 프로그램에 이상적인 선택이 가능합니다.