판매용 중고 ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102 #293811556

ULTRON SYSTEMS INC / USI UH 102
ID: 293811556
웨이퍼 크기: 6"
Ultraviolet (UV) curing systems, 6".
ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102는 고정밀, 통합 반도체 장치의 개발 및 제작에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템에는 정밀 저항 디스펜서, 저항 스트리퍼, 포토 esist 포드, 광학 현미경, 핫 플레이트 및 스핀 스피드 미터가 포함됩니다. 저항제 "디스펜서 '는 필요 한 양 의 광물질 용액 을" 실리콘 웨이퍼' 에 정확 하게 분배 할 수 있다. "핫 플레이트 '는" 웨이퍼' 를 균일 하게 가열 시킬 수 있고 저항제 "스트리퍼 '는" 웨이퍼' 에서 원치 않는 "포토레지스트 '를 제거 한다. photoresist pod에는 가시 광원, 콘덴서 렌즈 및 웨이퍼 홀더의 소스가 포함되어 있습니다. 현미경은 웨이퍼 표면을 시각화하는 데 사용되며, 스핀 스피드 미터 (spin-speedometer) 는 웨이퍼의 스핀 속도를 기록합니다. USI UH 102는 마이크로 패브라이션 프로세스를 위해 설계되었으며, 뛰어난 패턴 해상도, 향상된 에지 선명도 및 부드러운 포토 esist 코팅을 제공합니다. 이 장치 는 가장 정확 한 "펌프 '와" 펌프' 를 만들어 원하는 양 의 "포토레지스트 '를 분해 할 수 있다. 정밀 분배 기술은 빠른 속도로도 균일하고 일관된 코팅을 제공합니다. "웨이퍼 '는 광학 으로 정확 하게 전사 되고 주사 되며, 포토레지스트 의 정확 한 위치 와 두께 를 보장 한다. 열판은 균일 한 온도 분포를 제공하여 웨이퍼 (wafer) 에서 차갑고 뜨거운 반점 (hot spot) 을 제거하고 스핀 스피드 (spin speedometer) 는 스핀 스피드를 정확하게 측정합니다. ULTRON SYSTEMS INC UH 102는 photoresist 매개 변수의 정확한 결정 및 모니터링을 위해 정교한 소프트웨어를 사용합니다. 이 정교한 소프트웨어를 사용하면 고정밀 패턴화와 신속한 처리 시간이 가능합니다. 이 기계의 소프트웨어는 또한 데이터를 기록, 분석할 수 있으며, 포토리스 (photoresist) 과정을 심층적으로 분석 할 수 있습니다. UH 102는 작동 및 유지 관리가 간편하며 안정성과 비용 효율성을 제공합니다. 첨단 설계와 기술은 품질 (Quality) 재료와 컴포넌트를 통해 깨끗하고 효율적인 운영을 가능하게 합니다. ULTRON SYSTEMS INC/USI UH 102에는 생산성을 최적화하고 효율성을 높이기 위해 설계된 추가 액세서리도 포함되어 있습니다. 이러한 액세서리에는 프로브 스테이션, 기판 및 플럭스 저수지가 포함됩니다. 결론적으로, USI UH 102는 마이크로 패브라이션 공정에서 뛰어난 고정밀, 통합 포토 esist 도구입니다. 이 제품은 정교한 소프트웨어를 활용하여 저항 인쇄 (resist printing) 프로세스의 정확성과 일관성을 보장하므로 일반적인 인쇄 오류를 방지합니다. 사용자 친화적인 설계와 신뢰할 수 있는 구성요소를 통해 운영, 유지 보수가 용이하며, 탁월한 성능과 비용 대비 효과를 제공합니다.
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