판매용 중고 ULTRA OPTICS Mini II #9316393

ULTRA OPTICS Mini II는 고급 전자 빔 리소그래피 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 고해상도 이미지 (매우 정밀도, 정확도) 를 만들 수 있는 고성능 시스템이다. 미니 II (Mini II) 는 광 필드 디스플레이가있는 1 단계 전자 빔 열을 특징으로하여 동적 해상도를 조정할 수 있습니다. 전자적으로 다양한 이미징 기술을 제공하며, 빔 (beam) 과 광학 (optics) 의 정밀 수동 이동을 제공합니다. 또한 자동 정렬 장치 (Automatic Alignment Machine) 가 장착되어 있어 이미징이 필요한 각 빔과 오브젝트를 정확하게 정렬할 수 있습니다. ULTRA OPTICS Mini II는 포토리스트를 사용하여 고해상도 기능을 만듭니다. 광저항제는 빛에 민감하고, 특히 UV (ultra-violet) 빛에 민감하며, 자외선에 노출 될 때, 빛의 강도가 반응성에 중요한 역할을하면서 화학적으로 변경된다. 미니 II (Mini II) 도구는 다양한 응용 분야에 대해 음과 양의 다양한 포토 esist 유형을 특징으로합니다. 사용 가능한 모든 photoresist 유형은 ULTRA OPTICS Mini II에있는 1 단계 전자 빔 열과 작동하도록 설계되었습니다. Mini II를 사용할 때 사용자는 빔 전류 (beam current) 와 속도 (speed) 를 조정할 수 있습니다. 또한 래스터 (raster), 직선형 (rectilinear), 나선형 (spiral) 및 헤셀 (hessel) 패턴과 같은 다양한 스캔 패턴을 노출 전에 미리 프로그래밍하여 최고의 해상도를 달성 할 수 있습니다. 울트라 옵틱스 미니 II (ULTRA OPTICS Mini II) 는 다양한 기능과 패턴의 정확한 이미징을 위해 설계되었으며, 반도체 제조와 같은 제조 공정에 적합합니다. 0.2 나노 미터에서 여러 미크론에 이르는 기능 크기를 생성 할 수 있습니다. 또한, 이 자산은 사용 편의성을 위해 설계되었으며, 종합적인 소프트웨어 액세서리 제품군을 제공하여, 기능을 더욱 확장합니다. 요약하자면, Mini II는 제조 요구를 위해 설계된 고급 전자 빔 리소그래피 모델입니다. 동적인 해상도 조정이 가능한 고급 단단식 전자빔 (single-stage electron beam column) 과 다양한 응용 분야에 사용 가능한 다양한 포토레지스트 (photoresist) 재료가 장착되어 있습니다. 울트라 옵틱스 미니 II (ULTRA OPTICS Mini II) 는 정밀 이미징 (Precision Imaging) 과 종합적인 소프트웨어 액세서리를 사용하여 고급 마이크로 패브릭션에 이상적인 장비입니다.