판매용 중고 ULTRA OPTICS Mini II #9277326

울트라 옵틱스 미니 II (ULTRA OPTICS Mini II) 는 다양한 기판에서 미세 광학 부품을 안정적이고 고정밀도 있게 제작할 수 있도록 설계된 새로운 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 여러 구성 요소를 결합하여 매우 효율적이고 신뢰할 수있는 photoresist 단위를 만듭니다. 이 기계는 광학 구성 요소 제작을 위한 우수한 게이트형 성능 (gate-define performance) 과 낮은 결함 수준 (low defect level) 을 제공합니다. 모든 마이크로 옵틱 (micro-optics) 제작 환경에서 운영자가 쉽게 액세스하고 사용할 수 있도록 작은 설치 공간을 갖추고 있습니다. 이 도구는 정밀 USQ 193nm 회전 투영 에셋을 사용하여 기판에 고해상도 이미징 (high resolution imaging) 을 제공합니다. 이 회전 모델을 사용하면 응용 photoresist가 기판의 형상 (geometries) 에 매우 정확하게 정렬 할 수 있습니다. 투영 장비는 XYZ 단계에 장착되어 투영 빔 (projection beams focus) 을 기준으로 기판을 정확하게 배치합니다. 이 시스템은 또한 6 축 로봇 암을 사용하여 모든 프로세스 모듈 사이에 기판을 정확하게 전달합니다. photoresist 단위는 다중 제트 침수 유체 제트를 사용하여 기판 위의 photoresist를 매우 정확하고 정확하게 분배합니다. 이 과정 은 공정 중 의 폐기물 을 줄여 주며, 광저장제 의 정확 한 적용 을 보장 해 준다. 광전자가 적용되면, 기질에 이미지를 형성하는 데 필요한 교차 연결 반응에 대한 원형 편광 광 (circular polarized light) 에 노출된다. 그런 다음 자외선 가시식 이미징 기계를 사용하여 교차 연결 영역을 모니터링합니다. 자동화 된 스핀 코터 (spin-coater) 를 사용하여 큰 기질에 포토 esist를 적용하고 균질한 적용을 제공 할 수 있습니다. 이 스핀 코터 도구는 미니 II (Mini II) 에셋에 통합되어 뛰어난 프로세스 반복 성과 정확성을 제공하는 포토 esist 코팅을 자동으로 적용 할 수 있습니다. 마지막으로, 포토 esist 모델의 정확성은 통합 제어 장비를 통해 보장됩니다. 이 시스템을 통해 연산자는 그래픽 사용자 인터페이스를 사용하여 photoresist dose, camera exposure time, dispense speed, spin speed 등의 매개변수를 제어할 수 있습니다. 이렇게 하면 이미징 프로세스가 반복되고 신뢰할 수 있습니다. 요약하자면, 울트라 옵틱스 미니 II (ULTRA OPTICS Mini II) 는 다양한 기판에서 미세 광학 부품의 신뢰성과 정밀한 제작을 제공하는 고급 포토 esist 장치입니다. 정밀 USQ 193nm 회전 프로젝션 머신과 자동 멀티 제트 몰입 유체 제트기를 사용하여 포토 esist를 정확하게 분배합니다. 통합 제어 툴은 프로세스 반복성, 정확성 제어 기능을 제공하여 고품질, 신뢰성 있는 제작을 보장합니다.