판매용 중고 TUNG SHUNG 27MQ-E #194141

TUNG SHUNG 27MQ-E는 반도체 처리에 사용되는 포토 esist 시스템입니다. 즉, 오류를 줄이고 프로세스 품질을 향상시켜 수익률을 높일 수 있도록 설계되었습니다. 이 "시스템 '은" 포토레지스트' 층 을 빛 이나 다른 방사선 원 에 노출 시키고 그 층 의 조성물 이나 성질 을 변화 시킴 으로써 작용 한다. 27MQ-E는 고해상도 스테퍼를 사용하여 빛 (light) 이나 방사선 (radiation) 에 대한 노출을 획득하고 제어하여 정확한 교정 및 제어를 허용합니다. 통합 조명 정렬은 포토 esist 레이어에서 노출 대상의 매우 정확한 영상을 가능하게합니다. 또한, TUNG SHUNG 27MQ-E의 해상도는 800nm이며, 이는 빛 또는 기타 방사선 소스에 노출되는 것이 높은 품질과 정확성을 보장합니다. 27MQ-E는 또한 기판 난방 기능을 특징으로하며, 이는 포토 esist 효과를 달성 할 수 있도록 사용됩니다. 이것은 기질의 온도를 올리기 전에 1 분 동안 최대 450 ° C 의 온도에 노출함으로써 수행됩니다. 기질이 set-point 온도에 도달하면 photoresist가 노출됩니다. 복잡한 하드웨어 설정 외에도, TUNG SHUNG 27MQ-E (TUNG SHUNG 27MQ-E) 는 또한 포토레스 레이어에 노출 된 결과를 더욱 향상시키기 위해 하드웨어와 함께 작동하는 소프트웨어 플랫폼을 가지고 있습니다. 이 소프트웨어 플랫폼을 사용하면 노출 시간의 최적화, 광도 (light intensity), 포토레지스트 (photoresist) 흐름 속도 (flow rate) 및 기타 프로세스 매개변수를 포함하여 노출을 유연하게 예약하고 결과를 추적할 수 있습니다. 또한 이전 결과를 쉽게 리콜하고 향후 프로세스를 위한 새로운 레시피 (레시피) 를 만들 수 있습니다. 전반적으로 27MQ-E 포토 esist 시스템은 현대 반도체 제조 개발을위한 훌륭한 도구입니다. 사용하기 쉬운 하드웨어와 강력한 소프트웨어 플랫폼을 갖춘 TUNG SHUNG 27MQ-E (TUNG SHUNG 27MQ-E) 는 포토리스 시스트 (photoresist) 프로세스가 매우 정확하고 정밀하게 수행되므로 수율 및 공정 품질이 향상됩니다.