판매용 중고 TOSHIBA CMT-600W #9410792

TOSHIBA CMT-600W는 TOSHIBA Corporation이 설계하고 제작 한 포토 esist 장비입니다. 고정밀도, 완전 자동화, 비접촉 저항 처리 시스템으로, 광학 대상을 효율적으로 노출시키고 개발할 수 있습니다. CMT-600W는 고출력 (High-Power) 노출 장치 및 고급 노출 방법을 사용하여 매우 높은 해상도를 구현하도록 설계되었습니다. 이 기계는 반도체 마스크, 디스플레이, 포토컨덕터 기판 등 다양한 광 객체를 수용할 수 있습니다. TOSHIBA CMT-600W는 400 ~ 450 나노 미터 파장의 고출력 크세논 램프를 사용하여 최대 4,000 mJ/cm2 노출 에너지를 제공 할 수 있습니다. CMT-600W는 노출 단계와 초점 수정 단계를 포함하는 2 단계 노출 도구를 사용합니다. 노출 단계 (exposure stage) 동안, 물체는 제논 램프 (xenon lamp) 의 빛으로 조사되고, 그 다음 두 번째 단계 (focus correction) 가 수행되어 기판에 피쳐가 정확하게 배치됩니다. 에셋은 또한 자동 기울기 옵션 (auto tilt option) 을 특징으로하며, 기판을 가로 질러 불균일 한 서피스 높이를 보완하는 데 사용됩니다. 이 기능은 전체 기판 영역에 균일 한 노출을 달성하는 데 도움이됩니다. TOSHIBA CMT-600W (TOSHIBA CMT-600W) 에는 강력한 개발 모델이 장착되어 있어 저항 표면을 빠르고 쉽게 울리고 건조할 수 있습니다. 강력한 노출 및 개발 시스템 외에도, CMT-600W 는 포토리스 처리 (photoresist processing) 범주에서 다재다능한 툴이 되는 다양한 기능을 갖추고 있습니다. 자동화된 청소 장비와 자외선 방출 모니터 (Utraviolet Light Emission Monitor) 및 통합 간극 필러 시스템 (Gap Filer System) 이 있습니다. 이 장치에는 또한 결함을 파악하고 분리할 수 있는 내장형 결함 검사기 (BIST) 가 포함되어 있어 전체 프로세스에 걸쳐 품질 관리 (Quality Control) 를 보장할 수 있습니다. 전반적으로, TOSHIBA CMT-600W는 광학 물체에 대한 뛰어난 해상도, 정확도 및 유연성을 제공하는 포토 esist 처리를위한 훌륭한 솔루션입니다. 최신 기술과 고급 디자인 요소를 결합하여 탁월한 성능을 제공합니다 (영문). 이 도구는 반도체 마스킹 (semiconductor masking) 에서 제조 디스플레이 (display manufacturing) 에 이르기까지 다양한 응용 프로그램에서 사용할 수 있습니다. 고급 기능과 신뢰할 수있는 성능으로 CMT-600W (photoresist processing) 를 선택할 수 있습니다.