판매용 중고 THERMO FISHER SCIENTIFIC / SHANDON 312007 #9040707
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Thermo FINDERTHERMO FISHER SCIENTIFIC/SHANDON 312007 (Thermo FISHER SCIENTIFIC/SHANDON 312007) 은 얇은 층의 재료를 기판에 정확하게 에칭하고 증착하거나 다층 미세 구조를 제작하는 데 사용되는 포토 레스트 시스템입니다. 제어판, 전원 공급 장치, 노출 소스 (exposure source) 및 기판에 에너지 출력 빔을 정확하게 정렬하기 위해 회전하고 슬라이드하는 샘플 플레이트 (sample plate) 로 구성됩니다. photoresist 시스템은 4 "x4" 및 6 "x6" 과 같은 더 큰 표준 기판 외에 2 "x2" 기판과 같은 작은 치수의 크기를 포함하여 다양한 크기의 기판을 처리 할 수 있습니다. 이 과정을 통해 바이오 메디컬 (biomedical) 또는 전자 (electronics) 응용 프로그램의 정확도가 높은 복잡한 패턴과 같은 더 유연한 미세 구조 설계가 가능합니다. 광저항 과정은 광감수성 중합체 (light-sensitive polymer) 인 얇은 광저항 층 (thin layer of photoresist) 을 기질에 적용하는 것으로 시작됩니다. 광도 (photoresise) 가 제자리에 들어간 후, 노출 원을 켜고, 포토 esist의 노출 된 영역에 물질을 에치 (etch) 하거나 퇴적시키기 위해 집중된 에너지의 빔을 생성합니다. 빔은 정확한 정렬을 위해 조이스틱으로 제어됩니다. 노출 과정의 지속 시간 및 복잡성 또한 미세 조정 (fine-tuned) 될 수 있으므로 제작의 제어와 정확도를 높일 수 있습니다. 노출 과정이 완료되면 포토 esist가 개발됩니다. 이러 한 개발 과정 은 화학개발자 를 사용 하여 광저장술사 의 노출 된 부위 를 용해 시키고, 방호용 "마스크 '역할 을 할" 노출 되지 않은' 부위 를 남긴다. 그런 다음 이 마스크는 스텐실 (stencil) 역할을 하여 에칭 및 증착할 부품을 정의합니다. 만약 포토레시스트가 개발되면, 나머지 에칭 (etching) 또는 증착 (deposition) 과정은 원하는 특성에 따라 일어날 수 있다. 이러한 프로세스에는 이온 또는 플라즈마 에칭, 스퍼터링에 의한 박막 층 증착, 전기 도금 등이 포함될 수 있습니다. Thermo FandSHANDON 312007 (Thermo FandSHANDON 312007) 의 도움으로 수행 된 이러한 프로세스의 조합을 통해 복잡한 미세 구조 및 부품 시스템을 갖춘 부품을 정밀 제작할 수 있습니다. 미세구조의 정확한 제조는 생의학 (biomedical) 에서 전자 (electronics) 에 이르기까지 다양한 목적으로 새로운 재료와 장치를 개발하는 데 중요한 단계입니다.
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