판매용 중고 TERRA UNIVERSAL Acid bench #293589820

테라 유니버설 애시드 벤치 (TERRA UNIVERSAL Acid bench) 는 반도체 제조 및 마이크로 일렉트로닉 응용에서 기판의 정확하고 효율적인 처리를 위해 설계된 특수 광전자 장비입니다. 이 고급 시스템 (Advanced System) 은 뛰어난 제어 및 정확도로 포토리스 처리 단계를 처리할 수 있는 다양한 기능을 제공합니다. 산 벤치 장치 (Acid Bench Unit) 에는 최첨단 기능과 기술이 장착되어 있어 photoresist 처리 작업흐름에서 최적의 성능과 신뢰성을 보장합니다. 이 제품은 민감한 기판 및 포토레지스트 (photoresist) 재료를 처리하기 위해 깨끗하고 제어된 환경을 제공하여 리소그래피 (lithography) 공정에서 고품질의 결과를 얻을 수 있도록 설계되었습니다. TERRA UNIVERSAL Acid 벤치 머신 (TERRA Universal Acid bench machine) 의 주요 특징 중 하나는 모듈식 설계로, 다양한 처리 요구사항과 기판 크기를 수용할 수 있는 사용자 정의 및 유연성을 제공합니다. 이 도구는 일반적으로 산성 탱크, 린스 스테이션, 스핀 코터, 핫 플레이트, 배기 시스템 등의 일련의 모듈로 구성되며, 모두 컴팩트하고 인체 공학적 (ergonomic) 레이아웃으로 통합되어 효율적인 워크플로와 쉽게 액세스할 수 있습니다. 자산의 산 탱크 (acid tank) 는 황산, 염산 (hydrochloric acid) 또는 기타 독점 화학 용액과 같은 광저장제 처리 단계에서 사용되는 다양한 유형의 산을 저장하고 분배하도록 특별히 설계되었습니다. 이 "탱크 '들 은 기판 에" 산' 을 정밀 하게 분배 하고 정확 하게 분배 할 수 있도록 정확 한 온도 와 수준 조절 장치 를 갖추고 있다. 산 벤치 (Acid bench) 모델 내의 린스 스테이션 (Rinse station) 은 산 처리 단계 후 기질을 울리고 청소하기위한 통제 된 환경을 제공하여 잔여 화학 물질 또는 오염 물질을 제거한다. 이 린스 스테이션 (Rinse Station) 에는 고순도 린스 수질을 유지하고 기판의 오염을 방지하기 위해 탈이온화 된 급수 시스템 및 여과 장치가 장착되어 있습니다. 테라 유니버설 산 (TERRA UNIVERSAL Acid) 벤치 장비의 스핀 코터 (Spin coater) 는 기판에 포토 esist 물질을 균일 하게 코팅하도록 설계되어 리소그래피 공정에 대한 일관된 레이어 두께와 커버리지를 보장합니다. 이 스핀 코터에는 프로그래밍 가능한 스핀 속도 (spin speed) 와 시간 설정 (time settings) 이 장착되어 있어 증착 과정을 제어하고 포토레지스트 레이어의 접착과 해상도를 최적화합니다. 애시드 벤치 시스템 (Acid bench system) 에 통합 된 핫 플레이트는 기판의 포토 esist 레이어를 굽고 치료하기위한 정확한 온도 조절을 제공합니다. 이러 한 "핫플레이트 '는" 베이킹' 과정 내내 기판 을 고르게 가열 하고 안정성 있는 온도 "프로파일 '을 유지 하도록 설계 되어 있어, 광접착 층 의 최적 인 접착 과 일관성 을 보장 해 준다. TERRA UNIVERSAL Acid 벤치 유닛 (TERRA UNIVERSAL Acid bench unit) 의 배기 시스템은 포토 esist 처리 단계에서 생성 된 연기, 증기 및 공수 오염 물질을 제거하여 깨끗하고 안전한 작업 환경을 유지하는 데 중요한 역할을합니다. 이 배기 시스템에는 고효율 필터 (filter) 와 환기 메커니즘이 장착되어 있어 안전 및 환경 규정을 준수할 수 있습니다. 전반적으로, 산 벤치 머신 (Acid bench machine) 은 반도체 및 미세 전자 산업에서 광전자 처리를 위해 정교하고 신뢰할 수있는 솔루션입니다. 고급 기능, 모듈식 설계 (modular design), 정확한 제어 기능을 갖춘 이 툴은 리소그래피 (lithography) 프로세스에서 고품질 및 반복 가능한 결과를 얻을 수 있는 포괄적인 솔루션을 제공합니다.