판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9273847

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz는 정밀 광사 장비입니다. 집적 회로 (IC) 제조에 광석기 공정으로 사용됩니다. 광 소시스트 (Photoresist) 는 IC 제조 중 기질에 적용되는 빛에 민감한 물질로, 레티클 (reticle) 이라는 패턴 광원에 노출된다. 이 시스템은 재료 레이어를 기판에 정확한 에칭 (etching) 및 증착 (deposition) 할 수 있습니다. 이 장치는 광학 스테퍼, 스크리버, 마스크 정렬기 및 플라즈마 에처 (plasma etcher) 를 포함한 여러 구성 요소로 구성됩니다. 광학 스테퍼는 포토 esist 레이어를 레티클에 정확하게 노출시키는 데 사용됩니다. "스크리버 '는" 에칭' 과정 전 과 후 에 기판 을 자르고 모양 을 만드는 데 사용 된다. 마스크 정렬기 (mask aligner) 는 적절한 정렬을 보장하고 광석기 패턴의 변광성을 줄이기 위해 사용됩니다. 마지막으로, 플라즈마 에처 (plasma etcher) 는 필름 패턴을 적절한 깊이 및 속도로 photoresist 레이어에 에칭하는 데 사용됩니다. TEL MARK-VZ에는 photoresist 프로세스를 최적화하는 데 사용할 수있는 몇 가지 기능이 있습니다. 이 기계의 독점적 인 레이저 마이크로 에칭 기술은 더 빠른 사이클 시간, 높은 처리량, 궁극적으로 IC 제작에 대한 더 높은 수율을 가능하게했습니다. 또한, 공구의 적응 렌즈 (adaptive lens) 기술을 사용하면 다양한 레티클 패턴 및 피쳐 크기로 더 세밀하게 조정할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK V-Z는 또한 신뢰성을 높이고 효율적인 운영을 촉진하는 다양한 작동 기능을 제공합니다. 여기에는 자동 온도 조절 (automatic temperature control) 과 에칭 프로세스 제어를위한 압력 조절기 (pressure regulator) 가 포함됩니다. 또한 TEL/TOKYO ELECTRON MARK V-Z에는 종합적인 사용자 인터페이스 및 소프트웨어 패키지가 함께 제공되어 설치 및 평가 프로세스를 통해 사용자를 안내합니다. 결론적으로 TEL MARK V-Z는 IC 제조에 사용되는 신뢰할 수 있고 강력한 포토 esist 자산입니다. 고급 photolithography 기능을 사용하면 더 빠른 주기 시간, 높은 처리량 및 더 높은 수율을 얻을 수 있습니다. 또한 운영 기능과 사용자 인터페이스는 안정적인 운영 및 사용 편의성을 보장합니다. 이러한 기능을 통해 MARK V-Z는 IC 제작 및 기타 사진 분석 프로세스에 적합한 선택입니다.