판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9205494

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz 포토 esist 장비는 정밀한 미크론 스케일 기능을 대규모 통합 할 수있는 리소그래피 솔루션입니다. 이 시스템은 고급 웨이퍼 (Wafer) 및 장치 구성 (Device Fabrication) 시설에 사용하기에 적합하며, 우수한 등록 정렬을 통해 대용량 화면 비율 (Large-Aspect Ratio) 기능을 안정적으로 패턴화할 수 있습니다. TEL MARK-VZ 장치는 고급 웨이퍼 설계 및 제작에 필요한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 기계는 실리콘 웨이퍼, Si-LDI (silicon layer direct imaging) 및 뛰어난 속도와 정확도로 복합 재료에 응용하는 데 능숙합니다. 작업 중 TOKYO ELECTRON MARK V-Z 포토 esist 도구는 전용 스캐닝 스테이지, 스캐너 및 포토 esist 프로세서로 구성됩니다. 스캐닝 단계는 2 개의 입방 수직 단계, 헥사 포드 정렬 단계 및 다중 세그먼트 단계로 구성됩니다. 스테이지 구성은 스캐닝 중 레이아웃과 위치 지정 정확도를 최적화하여 PMOS 및 NMOS 구조 간의 효율적인 오버레이를 가능하게 합니다. TEL MARK Vz photoresist 에셋에는 대형 HD 이미지를 단일 스트로크로 패턴화할 수있는 레이저 다이오드 소스 스캐너가 장착되어 있습니다. 스캐너는 고출력 레이저 빔을 사용하여 패턴 된 기판에서 큰 종횡비 기능을 정확하게 패턴화합니다. 스캐너는 매우 정밀하고 왜곡이없는 노출을 제공하며, 매우 깨끗하고 균일 한 이미지를 제공합니다. TEL MARK V-Z 포토 esist 모델에는 습하고 건조한 개발에 탁월한 화학적 정확도를 제공하는 프로세서가 있습니다. 이 프로세서는 개발하기 어려운 기판 처리를 위해 일관된 데이터와 높은 감도를 제공하도록 설계되었습니다. 프로세서는 또한 PEB (Post-Exposure Bake) 수준과 고급 리소그래피 알고리즘을 제공 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK Vz 포토레지스트 (photoresist) 장비는 매우 정확한 기능이 필요한 고급 기술 환경에서 사용하기에 적합합니다. 프로 톤 (Pro Ton) 및 전자 빔 리소그래피 (Electron Beam Lithography) 를 위한 비용 효율적인 솔루션을 제공하여 다양한 프로세스에 대한 고품질 패턴을 제공합니다. 또한, 고객의 구체적인 요구에 맞게 다양한 구성으로 제공됩니다.