판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293625671

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz는 석판 공정에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 광석기 (photolithographic) 공정에 사용되는 광범위한 포토레지스트 (photoresist) 재료를 전문적으로 처리하고 처리하도록 설계되었습니다. 여러 기술을 결합하여 최고 품질의 결과를 낼 수 있습니다. 이 시스템은 고급 광학 장치 (optical unit) 로 인해 다른 시스템에 비해 향상된 해상도와 정확도를 제공하도록 설계되었습니다. 이 기계는 또한 고속, 3 차원 구조 및 스캔 메커니즘으로 설계되어 이미지 처리 속도를 높입니다. 광학은 균일 하고 밝은 광원을 제공하여 광자 (photoresist) 의 균일 한 노출을 보장합니다. 이 도구는 폴리메틸 메타 크릴 레이트 (PMMA), 폴리 이미 드 (PI), 폴리메틸 펜텐 (PMP), 폴리 비닐 페놀 (PVP), 폴리스티렌 (PS) 및 폴리 아크릴 로닐 (polyacronile) 을 포함한 다양한 광 작용제를 처리 할 수 있도록 설계되었습니다. 또한 구리, 알루미늄, 철, 주석, 유리, 플라스틱, 종이 등 다양한 기판에서 다양한 재료를 처리 할 수 있습니다. TEL MARK-VZ 에셋은 다양한 포토 마스크 (photomask) 와 함께 사용하도록 설계되었으며, 다양한 사진 노출 및 패턴 응용 프로그램을 사용할 수 있습니다. 포토 마스크 (photomask) 는 표면 반사를 줄이고 제한하여 더 나은 정의와 세부 사항을 제공하도록 특별히 설계되었습니다. 또한, 모델은 여러 레이어의 photomask를 처리하여 더 깊은 패턴 적용 (patterning application) 을 가능하게 할 수 있습니다. 이 장비는 완전 자동화 시스템 (Fully Automated System) 으로 설계되어 안정적이고 일관성 있고 반복 가능한 출력 품질을 제공합니다. 자동 단위는 정확한 사진 리스토그래피 프로세스 요구 사항을 충족하도록 프로그래밍됩니다. TOKYO ELECTRON MARK V-Z photoresist machine 은 모든 photolithographic process 에서 최상의 결과를 얻을 수 있는 최고 수준의 정확성과 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 옵틱 (optic), 자동 시스템 (automated system) 및 다양한 재료를 처리할 수 있는 기능을 갖춘 이 툴은 모든 유형의 리소그래피 (lithography) 애플리케이션에 이상적인 솔루션입니다.