판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #293587287

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz는 나노 제작을위한 최첨단 포토 esist 장비로 ICC (Ultra Small Resistor and/or Integrated Circuit) 제작을위한 정확하고 불투명도가 높은 저항 이미징 솔루션을 제공합니다. 그 속도 와 정확도 가 뛰어나기 때문 에, 그것 은 반도체 산업 내 에서 감광 장치 를 만들기 위한 가장 포괄적 이고 신뢰 할 만한 "포토리스 '(photoresist) 장치 중 하나 이다. TEL MARK-VZ 포토 esist 시스템에는 정확하고 일관된 저항 노출을 제공하는 자동 최적 노출 (AOE) 장치가 장착되어 있습니다. AOE 기계는 최적화 된 노출 매개 변수 (노출 에너지, 용량 및 신뢰할 수있는 저항 패턴을 만드는 데 필요한 시간) 를 통합합니다. TEL 독점 온도 조절 지그 (Jig) 는 일관되고 낮은 온도 저항 응용 프로그램을 가능하게하며, 기판 높이 제어 (SHC) 는 우수한 저항 균일성을 제공하며 저항 높이 변화에 신속하게 반응합니다. 다재다능한 TOKYO ELECTRON MARK V-Z 도구는 양성 (positive) 및 음성 (negative) 감광제를 모두 포함하여 쉽게 모든 유형의 저항 및 기판 물질을 처리하도록 설계되었습니다. 내성 (resist) 이미지를 용해하고 개발하기 위한 조건은 버튼 (button) 을 터치하여 쉽게 변경할 수 있으며, 따라서 각 프로젝트 (project) 의 정확한 요구 사항에 적응할 수 있습니다. MARK V-Z 는 또한 고해상도 패턴 인식 (pattern recognition) 기능을 갖추고 있어, 한 대상 기판에서 다른 대상 기판으로 이미지를 전송할 때 빠르고 쉽게 자동 정렬할 수 있습니다. 또한, MARK-VZ 포토레지스트 (photoresist) 자산은 특정 응용 프로그램의 특정 요구에 따라 추가 모듈 및 컴포넌트 (예: 추가 웨이퍼 샘플러, 추가 기판 또는 웨이퍼 전송 모델) 를 수용 할 수있는 용량으로 설계되었습니다. TOKYO ELECTRON MARK Vz는 강력한 단일 장비에 유연성, 정밀성 및 다용성을 제공합니다. 이 제품은 복잡한 IC 에서 사진 인식 장치 (photo-sensitive device) 에 이르기까지 모든 종류의 어플리케이션에 대해 기능적, 경제적인 나노 제작을 설정하는 데 이상적인 투자입니다.