판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark IV #293669153

TEL/TOKYO ELECTRON Mark IV 포토 esist 장비는 DUV (Deep Ultra Violet), 사진 리소그래피 및 OPC (Optical Proximity Correction) 와 같은 고급 리소그래피 프로세스를 가능하게하도록 설계된 포괄적 인 솔루션입니다. 이 시스템은 웨이퍼로부터 복잡한 고해상도 집적 회로 (IC) 를 구성 할 수 있습니다. TEL Mark IV는 다중 파장 투영 노출 도구, 수직 트랙, 포토 esist 트랙 및 자동 저항 처리 장치 (automated resist handling unit) 와 같은 여러 프로세스 도구를 통합하여 단일 플랫폼을 형성합니다. 다중 파장 투영 노출 도구 (multi-wavelength projection exposure tool) 는 광사진에 등장한 웨이퍼에 복잡한 패턴 (예: 장치 배선 및 모양) 을 그릴 수 있습니다. 이 기계는 레이저 조명 (laser lumination) 과 전자 빔 조명 (electron beam illumination) 의 조합을 사용하여 0.3DUV만큼 얇은 선 너비를 그릴 수 있습니다. 수직 (vertical) 트랙은 투영 도구에 노출되는 동안 프로세스 제어, 위치 지정 및 웨이퍼 방향을 관리합니다. 고급 알고리즘 (예: OPC) 은 패턴을 최적화하여 원하는 선 너비를 만들고 웨이퍼에 균일 한 이미지를 인쇄하는 데 사용됩니다. 포토리스 트 트랙 (photoresist track) 은 웨이퍼의 적절한 개발 및 에칭을 위해 포토 esist의 개발 및 회전을 제어합니다. 자동화된 저항 처리 시스템 (Automated Resist Handling System) 은 모든 처리 단계에서 웨이퍼의 처리 및 저장 (웨이퍼의 로드 및 언로드) 을 정확하게 제어하여 제조 중 균일 한 개발을 보장하기 위해 필요한 저항의 분배를 제공합니다. TOKYO ELECTRON Mark IV (TOKYO ELECTRON Mark IV) 는 사진 해설을 위한 포괄적인 솔루션을 제공하여 IC 디자이너가 높은 해상도와 정확도를 유지하면서 고급 기술을 활용할 수 있도록 지원합니다. 에셋은 트랜지스터, 메모리 칩, 논리 칩, 셀 기반 논리 칩 및 다양한 유형의 다른 IC (IC) 를 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 다른 프로세스 흐름에 적응하는 능력과 컴팩트 한 디자인 (compact design) 은 대용량 제조업체에 이상적인 선택입니다. 이 모델은 TEL (TOKYO ELECTRON) 과 TOKYO (Tokyo ELECTRON) 의 수년 간 업계 최고의 경험을 바탕으로 지원되며 일관된 결과와 최고의 제작 효율성을 제공하도록 설계되었습니다.