판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269135

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II는 반도체 생산의 성능 패턴화에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템의 목적은 고급 전자 프로젝션 정렬 기술을 사용하여 마스크 리소그래피 (mask lithography) 에 대한 고품질 반도체 포토마스크 (photomask) 를 만드는 것입니다. 이 장치는 10 "대형 선형 단계, 고해상도 투사 정렬 및 고정도 레이저 간섭계가있는 8 축 마스크 정렬 메커니즘을 통합합니다. 이러한 고급 정렬 기술을 통해 마스크 충실도 (fidelity) 및 반복 패턴 프로세스의 안정성을 높일 수 있습니다. 이 기계는 통합 탐지기 장치 (integrated detector unit) 및 고급 이미지 분석 기능을 사용하여 명암비가 낮고 선폭이 작더라도 패턴을 정확하게 감지하고 식별합니다. 이렇게 하면 복잡한 패턴을 효율적으로 수정할 수 있고, 고정밀 패턴화 (high-precision patterning) 와 검사 (inspection) 를 보장할 수 있습니다. TEL MARK II는 1.4 ~ 5.5 ° m 깊이의 고해상도 광학 이미징 도구를 사용하여 마스크 웨이퍼에 빛을 정확하게 투영합니다. 이렇게 하면 마스크 웨이퍼와 마스킹 에이전트 간에 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한, 에셋에는 최대 64 메가 픽셀 이미지를 캡처 할 수있는 카메라가 장착되어 있습니다. 이 모델에는 회절, 탄성 산란, 광발광, 2 차 이온 질량 분석법 및 비행 시간 질량 분석법과 같은 자동화 된 측정 기기의 배열도 포함되어 있습니다. 이를 통해 데이터 분석의 정확성과 효율성을 보장할 수 있습니다. 마지막으로, 이 장비의 최신 사용자 친화적 인 디자인은 소프트웨어 작동을 위해 직관적이고 안전한 환경을 제공합니다. 여기에는 그래픽 사용자 인터페이스와 프로그래밍 언어 통합이 포함됩니다. 또한, 이 시스템에는 다양한 소프트웨어 툴과 라이브러리가 포함되어 있어 운영 효율성을 높이고 다운타임 (down time) 을 없앨 수 있습니다. 무엇보다도, TOKYO ELECTRON MARK II 장치의 고급 기능은 반도체 제조에서 포토 esist 응용 분야에 이상적인 도구가됩니다. 또한 안정적이고 고성능 (HPA) 패턴을 제공하며 운영 효율성을 향상시키는 동시에 최상위 데이터 분석 기능을 제공합니다.