판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9226207

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II는 고급 전자 회로 부품 개발을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 특수" 레이저' 광선 의 도움 을 받아 얇은 유전체 와 금속 층 을 무늬 로 그리고 식각 을 만드는 새로운 과정 을 이용 한다. 이 "레이저 '광선 을 사용 하여 얇은" 포토레지스트' 층 을 "실리콘 웨이퍼 '와 같은 기판 위 로 무늬 있게 한다. 이 광필드 (photoresist) 는 기본 회로 구성 요소를 해로운 에칭 (etching) 으로부터 보호하고 액체를 처리하는 방패 역할을하며, 레이저 패턴을 통해 에칭 프로세스를 특정 위치에서 현지화 할 수 있습니다. 이 photoresist 장치는 높은 정확성과 고속 패턴 검사 및 미세 패턴 형성이 가능하여 반도체 제조, PCB (Printed Circuit Board) 제조 및 MEMS (Micro-electromechanical System) 장치 제조와 같은 응용 분야에 적합합니다. 또한, TEL MARK II (TEL MARK II) 에는 한 프로세스에서 여러 기판을 패턴화할 수있는 배치 모드 기능과 외국 칩의 패턴 크기를 쉽게 변경할 수있는 풀 필드 패턴 (full-field pattern) 기능이 있습니다. 도쿄 전자 마크 II (TOKYO ELECTRON MARK II) 는 개선 된, 높은 정확도 및 고속 정렬 기계를 특징으로하며, 패턴 영역 기판의 방향과 크기를 정확하고 빠르게 감지 할 수 있습니다. 이 도구는 또한 자동 초점 및 현미경 통합 자산 (autofocus and microscope integration asset) 을 특징으로하여보다 정확한 패턴 검사를 가능하게합니다. 또한, 이 모델은 주어진 재료로 모든 영역을 빠르게 채울 수있는 통합 렌즈 자동 채우기 (integrated lens auto-filling) 장비를 제공합니다. 채우기 에 필요 한 재료 를 미리 "프로그램 '할 수 있기 때문 이다. 특수 MARK II 거울 이동 시스템을 사용하면 레이저의 빔이 필요한 영역으로 정확하게 들어갈 수 있습니다. 마지막으로, TEL/TOKYO ELECTRON MARK II 장치는 자동 웨이퍼 전송과 효율적인 자체 모니터링 기능으로 제작되어 프로토 타입에 적합합니다. 이를 통해 제조업체는 한 프로세스에서 다른 프로세스로 수동으로 재료를 전송하지 않고도 회로 컴포넌트를 신속하게 설계, 정제할 수 있습니다 (영문). 이 기계는 또한 향상된 에지 클리어런스 (edge clearance) 및 공차를 제공하여 프로토 타입 기능을 더욱 향상시킵니다. 전반적으로, TEL MARK II 도구는 높은 정확성과 고속 패턴 검사, 미세 패턴 형성, 통합 된 자동 충전 및 미러 시프트 시스템을 제공하는 고급 포토레시스트 자산입니다. 이 모델은 반도체 (semiconductor), 인쇄 회로 기판 제조 (printed circuit board manufacturing), 프로토 타입 (prototyping) 등 다양한 응용 프로그램에 적합합니다.