판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9314258

ID: 9314258
웨이퍼 크기: 4"
(4) Developer system, 4".
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 PhotoResist 장비는 사진도 제작에 최고의 정확성과 정밀도를 제공하는 고급 이미징 시스템입니다. 이 장치는 고성능 반도체 (HPD) 및 평면 패널 디스플레이 응용 프로그램 개발에 이상적입니다. 기계는 RGB 레이저 소스, CCD 이미징 도구, 샘플 로딩 및 이미징을위한 모션 스테이지 (motion stage) 가 포함 된 광학이 장착 된 진공 챔버 위에 장착 된 고정밀 광학 장치로 구성됩니다. 이 정밀 장비 조합으로 TEL MARK8은 최대 해상도 (15nm) 에 도달하여 사진 해설에서 비교할 수없는 수준의 선명도를 제공합니다. 광학 장치 는 "레이저 '광선 의" 프로파일' 을 정확 하게 제어 하여, 선택한 파장 에서 거의 평행 한 광선 을 만들어 내도록 설계 되었다. 빔 각도 (beam angle) 는 최적의 초점과 효율적인 이미지를 웨이퍼로 전송하도록 조정할 수 있습니다. CCD 이미징 에셋 (CCD Imaging Asset) 은 최대 해상도 15nm보다 최대 1.2 배 높은 해상도로 샘플 이미지를 캡처하여 사진 분석 시스템에서 볼 수 없는 수준의 세부 (Detail) 를 제공합니다. 동작 단계 (motion stage) 는 레이저와 관련하여 샘플의 기울기 (tilt) 와 회전 (rotation) 을 모두 제어하여 이미지를 웨이퍼로 완전히 전송할 수 있습니다. 또한 TOKYO ELECTRON MARK-8 (TOKYO ELECTRON MARK-8) 은 여러 패스 이미지를 생성 할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 각기 다른 빛의 펄스를 가진 이미지를 얻을 수 있습니다. 즉, 단일 펄스로 복잡한 패턴을 생성하거나, 더 큰 커버리지를 위해 인터리브 (interleaved) 이미지를 생성하는 등의 작업을 전환할 수 있는 유연성을 제공합니다. 또한, 모델은 에치 (etch) 및 디파인트 (depaint) 와 같은 작업뿐만 아니라 더블 레이어 노출 (double-layer exposure) 또는 특수 옐로우 광 노출 (special yellow light exposure) 과 같은 고유 한 노출 패턴을 처리 할 수 있습니다. 정밀 광학, 고급 이미징 기술 및 TOKYO ELECTRON Mark 8의 강력한 성능 기능은이 기능을 반도체 및 평면 패널 디스플레이 산업의 사진 촬영 (photolithography job) 에 이상적인 솔루션으로 만듭니다. 이 장비는 높은 수준의 선명도 (clearity) 와 세부 (detail) 를 통해 이미지를 제공할 수 있으며, 다른 이미징 시스템에서는 탁월한 생산성 (production) 과 결과를 얻을 수 있습니다.
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