판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239619

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment는 반도체 장치 제조에 광범위한 기능적 이점을 제공하기 위해 설계된 포괄적 인 도구입니다. 이 시스템은 고속 및 고속 칩 생산을위한 고급 포토 esist (PR) 처리 솔루션입니다. 세계 최고의 반도체 장비 공급 업체 인 TEL에서 제조 한 TEL MARK8은 193 nm 및 깊은 자외선 노출 소스와 함께 사용하도록 설계된 완전 자동화 석판화 장치입니다. 이 기계는 다양한 통합 광화학 구성 요소가 장착 된 일련의 처리 챔버 (processing chamber) 로 구성됩니다. 이러한 컴포넌트는 다양한 PR 유형에 대한 클리닝, 코팅, 노출 프로세스를 조절할 수있는 포괄적인 PR 도구를 형성하여, 사용자는 프로세스 반복성을 최적화하고, 주기 시간을 줄이고, photoresist 수율을 증가시킬 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-8 플랫폼에 배포 된 고급 코팅 솔루션은 열 및 나노 스케일 재료를 포함한 모든 기존 PR 프로세스를 처리 할 수 있습니다. 이 도구는 고급 R&D 및 상업용 생산의 요구를 충족시키고, 14 nm 이하의 기능 크기에서 PR 성능을 제공하며, 빠른 비 반사 및 짧은 사이클 시간을 제공하도록 설계되었습니다. TOKYO ELECTRON Mark 8 자산은 두께 범위, 굴절률, 최대 및 최소 용매, 접착 등 광범위한 PR 특성을 수용 할 수 있습니다. 모델 소프트웨어는 각 디바이스의 최적의 프로세스에 필요한 PR 입력을 능동적으로 관리, 조정, 추적할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 지능형 온도 조절 알고리즘, PR 레이어의 멀티 레이어 초박막 제어, 우수한 오염 관리를 제공하여 포토 esist 수명을 연장합니다. Mark 8에는 강력한 도량형 시스템이 장착되어 있어 코팅 균일성 (coating uniformity) 의 프로세스 제어 및 고속 사진 화학 공정에 필요한 기타 매개 변수가 가능합니다. 이 장치는 여러 액세스 포트를 제공하여 PR 프로세스를 광역 노출 및 최적화할 수 있습니다. 또한 기판 정렬 및 photoresist 들여쓰기에 대한 입증 된 정확성을 제공합니다. 이를 통해 사용자는 이전보다 높은 수준의 이미지 해상도 (image resolution) 와 명암비 (contrast) 를 얻을 수 있습니다. 요약하자면, MARK-8 PR 머신은 반도체 업계의 갈수록 늘어나는 요구에 부응하도록 설계된 고급, 종합적인, 사용자 친화적인 도구입니다. 통합 된 광화학 구성 요소, 우수한 온도 조절 알고리즘, 강력한 도량형 시스템 (Metrology System) 을 통해, 사용자는 자산이 신뢰할 수 있고 반복 가능한 PR 처리 솔루션을 제공 할 수 있음을 확신 할 수 있습니다.