판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9233994

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ID: 9233994
웨이퍼 크기: 8"
System, 8" Configuration: SCR (2) Coater (2) Developer DUV Capable NIKON Stepper interface (4) RRC (IWAKI T‐100) pumps per coater (2) E2 Nozzles per developer (2) Chemical cabinets / TC Racks SHINWA T&H Unit.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment는 반도체 산업에서 일반적으로 볼 수있는 박막 증착 공정에 사용되는 최첨단 실험실 장비입니다. 이 시스템에는 한 번에 최대 200 개의 웨이퍼를 보관하는 자동 웨이퍼 로더 (Automatic Wafer Loader) 와 웨이퍼 회전 및 정확한 웨이퍼 위치를 제공하는 스캐닝 테이블 (Scanning Table) 이 있습니다. 또한 TEL MARK8에는 정확한 증착 조정 타이머 (timer), 증착 과정을 실시간으로 모니터링하기위한 고해상도 현미경 (high resolution microscope), 미세한 수준에서 박막 구조의 복잡한 조합을 설정하기위한 광범위한 포토 esist 저수지 (photoresist reservoir) 가 장착되어 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit은 레이저 유도 센서 기술과 기계화 공정의 조합을 통해 반도체 웨이퍼에 광증가 물질의 박막을 정확하고 효율적으로 배치 할 수 있습니다. "머신 '은 원하는 결과 를 얻기 위하여 진공실 내 에 있는 증착포 배열 을 이용 하여" 웨이퍼' 의 한 층 에 "포토레지스트 '물질 을 정확 하게 증착 시킨다. 총은 진공 압력, 정밀 공격 각도, 다양한 속도를 사용하여 광저항 물질 (photoresist material) 을 증착 할 때 높은 수준의 정확성과 반복성을 제공하도록 조정됩니다. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 도구에서 사용하는 진공 챔버 (vacuum chamber) 는 강착 과정에서 최적의 강착 균일성과 온도 조절을 달성 할 수있는 기능을 제공합니다. 또한, TEL MARK-8은 각 증착포에 조절 가능한 노즐 속도 및 소프트웨어 제어 식 셔터 메커니즘을 사용하여 웨이퍼 전체에 균일 한 코팅 두께를 제공 할 수 있습니다. 이 정확한 증착 기술의 결과로 TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Asset은 디지털 장치, 컴퓨터 및 기타 가전 제품에 사용되는 고품질 칩셋과 집적 회로를 생성 할 수 있습니다. MARK-8 Photoresist Model은 효율적이고 안정적인 박막 증착 프로세스를 지원하는 광범위한 도구 및 리소스 세트를 제공합니다. 강착 속도 와 두께 를 정확 히 최적화 하고 반도체 "웨이퍼 '의 성장 을 정확 히 감시 할 수 있는 능력 을 가진" 도쿄' 전자 "마아크 '8 장비 는 0.1" 나노미터' 보다 작은 뛰어난 반복성 과 분산 을 제공 한다. 이 시스템은 반도체 리소그래피 (lithography) 와 증착 프로세스 (deposition process) 를 최적화하는 신뢰할 수 있고 비용 효율적인 방법을 제공하여 고품질 칩셋과 전자 부품을 생산합니다.
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