판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9216280

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 포토 esist 장비는 정밀 마이크로 일렉트로닉 장치를 생산하도록 설계된 고성능 포토 리토 그래피 시스템입니다. 첨단 포토레시스트 (photoresist) 기술을 활용하여 작은 회로로 반도체 웨이퍼를 빠르고 정확하게 패턴화합니다. TEL MARK8 장치에는 고급 웨이퍼 스캐닝 머신 (Wafer Scanning Machine) 이 장착되어 있으며, 이중 빔 레이저 패턴화를 사용하여 웨이퍼에 포토리스 트랙 트랙을 정확하게 배치하고 노출시킵니다. 스캔 된 "레이저 '는 또한 초점," 펄스' 폭 및 전력 수준 을 조정 할 수 있는 기능 을 가지고 있으며, 이것 을 통해 포토레지스트 '층 을 극히 정확 하게 처리 할 수 있다. 이 스캐닝 도구 (scanning tool) 는 고급 photoresist 공식과 결합하여 최소 설정 시간과 동시에 여러 웨이퍼의 정확하고 반복 가능한 photoresist 처리를 허용합니다. TOKYO ELECTRON MARK-8에는 모델의 성능을 더욱 향상시키는 Upper/Lower Lens Pattern Correction Option이 장착 된 듀얼 빔 레이저 스캔 자산도 있습니다. 이 기능을 통해 레이저 스캐너 (laser scanner) 는 처리 온도나 노출 시간으로 인해 웨이퍼의 표면 처짐이나 변형을 보상 할 수 있습니다. 이 장비에는 고급 리소그래피 관리 제품군 (wafer pattern) 과 웨이퍼 (wafer) 및 프로그램 시스템 간의 신속한 데이터 전송을 포함하는 고급 리소그래피 (lithography) 관리 제품군도 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 장치는 생산 및 연구 환경을 위해 설계되었으며 TEL이 제공하는 강력한 연속 프로세스 지원 기술을 지원합니다. 이 머신에는 사용자 친화적인 프로덕션 관리 툴과 자동화된 런타임 (Run-time) 분석 (Analysis) 이 장착되어 있어, 이 툴의 성능을 모니터링하고 최적화할 수 있습니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON MARK8 포토 세스트 자산은 정밀 마이크로 일렉트로닉 장치를 생산하기위한 고급 포토 리토 그래피 모델입니다. 이 제품은 정확도 및 속도 향상을 위한 듀얼 빔 레이저 패턴화 (dual-beam laser patterning) 장비와 사용자 친화적 생산 관리를 위한 고급 석판화 관리 시스템을 갖추고 있습니다. 고급 photoresist 제제 및 Upper/Lower Lens Pattern Correction Option은 여러 웨이퍼의 반복 가능한 사진 해설을위한 뛰어난 성능을 제공합니다.