판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9190379
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판매
ID: 9190379
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1997
(3) Coaters / (2) Developers system, 8"
Flow: Right to left
Dual block
Type: Standard
System:
AC Cable length: 10 m
Signal cable length: 8 m
Tubing length: 8 m
EMO Signal logic: Normal close
Signal tower: (3) Colors (Red, green, yellow)
Coater:
Filter (Resist, solvent) status: ENTEGRIS
Pump type/status: 2-1 Coater R1, R2
Drain pipe connector type (PR Line): 1" (SUS)
Developer:
Developer dispense piping/tubing status:
3-2: 1/4" (Stream)
3-3: 1/4" (Spray)
DI Water dispense piping/tubing status: 3-2, 3-3: 1/4" (Stream)
Filter(DI,DEV) status: ENTEGRIS
Drain pipe connector type: PVC(¢ 32 x 25)
In-line with stepper/Scanner type: NSR
Thermo controller type: SMC (INR-244-112B)
Chemical box:
Solvent supply: Local
Developer supply: Local
EXH supply:
GEN
(12) SOL
Facility:
Power supply: AC 100/200 V, 60/75 A, 50/60 Hz, 1 Phase
1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8은 TEL이 개발 한 고급 포토 esist 처리 장비입니다. 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 업계의 사진 분석 프로세스 전반에 걸쳐 효율적이고 정확한 제어를 제공하도록 설계되었습니다. TEL MARK8은 자동 웨이퍼 전송 메커니즘, 고품질 노출 및 개발 기능, 그리고 다양한 노출 후 프로세스를 제공합니다. 도쿄 전자 MARK-8 (TOKYO ELECTRON MARK-8) 의 고급 반자동 로딩 시스템은 렌즈를 빠르고 정확하게 변경할 수 있으며, 노출 중 정밀도를 보완하는 기능을 제공합니다. 고급 웨이퍼 로드 장치 (wafer loading unit) 는 특정 웨이퍼 형상을 특징으로하며, 로드 및 언로드하는 동안 로우 벤드 프로파일과 함께 최대 칩 커버리지를 사용할 수 있습니다. MARK8의 최첨단 노출 기계는 photolithography 프로세스에 대한 핵심 정확성과 정밀도를 제공합니다. 이 도구는 정확도가 높고 정밀도가 높은 LSI 스테퍼 시스템을 통해 고성능 레이저 (submicron resolution) 가 필요한 패턴을 포토리스트 (photoresist) 에 노출 할 수 있습니다. 이를 통해 웨이퍼에 정확한 패턴이 노출 될 수 있습니다. 전반적으로, TEL Mark 8 의 노출 자산은 효율성이 높으며, 운영 처리량을 높이고 다운타임을 줄일 수 있습니다. TEL MARK-8은 또한 에칭, 베이킹, 애싱, 확인 등의 파스 사용 프로세스를 포함하는 고급 노출 후 처리 모델을 제공합니다. 이 장비는 폭넓은 노출 후 프로세스 (Post-Exposure Process) 를 자동화하여 다양한 고객 요구에 대해 반복적으로 사용 및 미세 튜닝 (Fine-Tuning) 을 수행할 수 있습니다. 이것은 궁극적으로 사이클을 더 짧게하면서 더 높은 품질과 정확한 결과를 허용합니다. MARK-8은 최고 수준의 정확성을 보장하면서 최대 반복성을 제공하도록 제작되었습니다. 노출 (exposure) 및 노출 후 처리 (post-exposure treatment) 를 포함한 시스템의 주요 기능은 안전성 저하 없이 최상의 결과를 제공하기 위해 설계되었습니다. 전반적으로 Mark 8은 고도로 고급적이고 효율적인 포토 esist 처리 장치입니다. 빠르고 정확한 노출, 자동 웨이퍼 전송 기능, 노출 후 처리 시스템 (Post-Exposure Treatment Machine) 을 제공하여 주기 시간이 적은 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. 이것은 마이크로 일렉트로닉스 및 반도체 제조에 적합한 선택입니다.
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