판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9170457

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8은 미세 전자 부품 생산에서 광석판 에칭에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 반도체, 태양, 자동차, 통신 등 다양한 업종의 다양한 애플리케이션에 사용됩니다. 이 고급 포토 esist 유닛에는 두 가지 주요 구성 요소가 있습니다. 이미징 및 패턴 생성 기계 (IPG) 및 코터/개발자 도구 (CDS). IPG는 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 부품을위한 고해상도 공중 이미지를 생성 할 수있는 이미지 생성 및 처리 자산입니다. 여기에는 이미지의 크기와 모양을 정확하게 묘사하도록 조정할 수 있는, 프로그래밍 가능한 셀과 디더 (dither) 패턴이 있는 고해상도 이미지 생성기 (high-resolution image generator) 가 포함되어 있습니다. 프로세서의 해상도는 10äm이고 이미지 크기는 100äm입니다. CDS는 포토리스트 적용 및 제거를 담당합니다. 얇은 광전자 층 (layer of photoresist) 으로 성분을 화학적으로 사전 코팅하는 역할을 수행하는 화학 탱크와 2 개의 증발 챔버가 장착되어 있습니다. 이 저항은 전체 컴포넌트를 코팅하고, 에칭되지 않은 영역을 마스크합니다. 성분을 개발할 때 CDS는 "화학적으로 증폭 된 (chemically-amplified)" 이라는 기술을 사용하는데, 이는 포토 esist의 물리적 특성에 직접 영향을 주어 정확성과 속도를 증가시킵니다. 이 과정 은 화학, 열, 빛 의 독특 한 조합 을 이용 하여, 광전자 가 구성 요소 를 정확 하게 덮고, 최대 의 정확도 로 "패턴 '을 만든다. 이 고급 포토 에스트 모델 (photoresist model) 은 미세 전자 성분의 높은 수준의 정확성과 안정적인 생산을 제공합니다. 해상도는 10äm, 이미지 크기는 100äm이며, 복잡한 이미지를 생성 할 수 있습니다. IPG 및 CDS 시스템은 얇은 포토레지스트 (photoresist) 레이어를 정확하게 적용하고 컴포넌트를 개발하기 위해 함께 작동하도록 설계되었습니다. 이렇게 하면, 비용 과 생산 시간 을 감소 시키는 "마이크로일렉트로닉 '성분 을 보다 빠르고 정확 하게 생산 할 수 있다. 이 포토리스 (photoresist) 장비를 가짐으로써 보다 정확하고 신뢰할 수있는 부품을 효율적으로 생산할 수 있습니다.