판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9098397

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8은 반도체 제작을 위해 리소그래피 프로세스에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 웨이퍼 (wafer) 에 저항재 (resist material) 의 박막 층을 패턴화하는 데 사용되어 기판 위에 인위적으로 생성 된 마스크가 생성됩니다. 포토레스 (photoresist) 시스템은 웨이퍼에 우물, 패턴 또는 격자를 정확하게 배치하여 매우 정확한 피쳐나 장치의 생산을 가능하게합니다. TEL MARK8에는 고속 스캔 광학 장치 (scan optics unit) 와 풀 서보 제어 (full servo control) 가 있어 피쳐를 매우 정확하게 배치할 수 있습니다. 또한 영역 키 스캐닝 (area-key scanning) 기능을 사용하여 왜곡을 만들지 않고 웨이퍼에서 패턴을 정확하게 추적할 수 있습니다. 또한 확대 이미징을위한 고해상도 사진 렌즈가 있습니다. 포토리스 스트 머신 (Photoresist Machine) 에는 최대 20äm 해상도의 수평 스캐닝 및 최대 1äm 해상도의 수직 스캐닝을 허용하는 고급 포토 리토 그래피 (photolithography) 도구가 장착되어 있습니다. 기계는 또한 nC/cm2 이하에서 여러 mC/cm2 범위의 노출 용량을 처리 할 수 있습니다. 멀티 패턴 노출을 촉진하는 통합 방송 자산이 있습니다. 기본 제공되는 ID 패턴 인식 (ID pattern recognition) 모델도 있으며, 이 모델을 사용하여 자동으로 패턴을 식별할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-8 포토 esist 장비에는 웨이퍼 처킹 시스템 (wafer chucking system) 이 장착되어 있어 에칭 과정의 정확성과 정확성을 보장합니다. 이 장치를 사용하면 단일 웨이퍼 (wafer) 에서 다중 레벨 에칭 (etching) 프로세스를 수행할 수 있으므로 복잡한 전자 장치 생산에 적합합니다. 또한, 이 시스템은 사용자가 원격 진단 도구 (remote diagnostics tools) 에 액세스할 수 있도록 하며, 원격 위치에서 프로세스를 모니터링하고 필요할 때 필요한 조정이 가능합니다. 또한 회전 기판 단계 (rotating substrate stage) 가 특징이며, 웨이퍼 노출을 용이하게하기 위해 최대 180äm까지 회전 할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK8 포토 esist 도구는 사용자에게 집적 회로 및 기타 전자 응용 프로그램을 제조하는 다용도, 정확하고 신뢰할 수있는 수단을 제공합니다. 정확하고 정확한 석판화 결과를 찾는 사람들을위한 완벽한 도구입니다.