판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #293680676
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TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8은 사진 에칭을 통해 반도체 웨이퍼에 복잡한 패턴을 만드는 데 사용되는 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 75nm의 정밀도와 10nm의 공차로 작동하므로 PCB (microelectronics industry) 의 PCB 및 기타 구성 요소와 같은 다양한 응용 분야에 이상적입니다. TEL MARK8 장치는 주요 포토 esist 장치, 저항 노출 장치 및 기판 준비 장치로 구성됩니다. 주 광저항 장치 (photoresist unit) 는 기판에 저항을 측정하고 적용하는 데 사용되는 기계의 중심입니다. 저항 노출 장치 (resist exposure unit) 는 사진 식각 과정에서 저항에 노출되는 강도, 위치 및 타이밍을 제어하는 데 사용됩니다. 기판 준비 장치 (substrate preparation unit) 는 사진 식각 프로세스 전에 기판이 제대로 준비되었는지 확인하는 데 사용됩니다. TOKYO ELECTRON MARK-8 도구 (TOKYO ELECTRON MARK-8 Tool) 는 다양한 애플리케이션에 맞게 조정할 수있는 다양한 저항과 함께 사용하도록 설계되었습니다. "프로그램 '하기 쉬운 첨단 저항제어" 시스템' 을 사용 함 으로써 여러 가지 저항유형 에 적응 할 수 있다. 또한 레이저, 수은 아크 램프, 형광 등 다양한 조명원과 호환됩니다. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 자산에는 고급 소프트웨어 제품군도 함께 제공됩니다. 여기에는 사진 에칭 (photo-etching) 프로세스를 모니터링하는 데 사용되는 소프트웨어와 최적의 노출 시간을 계산하는 데 사용되는 소프트웨어가 포함됩니다. 또한 기판 및 웨이퍼 (wafer) 조건의 변화에 대응하여 조명을 자동으로 조정하고 레벨을 저항하도록 모델을 프로그래밍 할 수도 있습니다. 마크 8 (MARK-8) 장비는 마이크로일렉트로닉스 (Microelectronics) 업계에 사용되는 광범위한 부품의 생산에 이상적인 선택이다. 첨단 저항제어 (Resist Control) 기능, 다양한 저항과의 호환성, 각기 다른 조명원에 쉽게 적응할 수 있는 기능으로, 다재다능한 시스템입니다. 또한, 소프트웨어 제품군은 최적의 결과를 위해 photo-etching 프로세스를 세밀하게 조정할 수 있는 기능을 제공합니다.
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