판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9239698

ID: 9239698
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
(3) Coater system, 8" Automation component: HSMS Inline flow: Right 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7은 다중 계층 반도체 제조 공정의 정밀도, 속도 및 수율을 최적화하도록 설계된 최첨단 포토 esist 장비입니다. 첨단 투영 이미징 (advanced projection imaging) 과 패터링 된 광자 기술을 활용하여 1 미크론 미만의 해상도로 알루미늄 에칭을 달성합니다. 고해상도 광학 (optic) 을 활용해 광저항층 (photoresist layer) 을 기판에 노출시켜 다양한 두께의 여러 레이어를 처리할 수 있다. 노출 과정은 서로 다른 파장의 2 개의 레이저 빔을 사용합니다. 하나는 등방성 (isotropic) 이고 다른 하나는 등방성 (anisotropic) 절제입니다. 이 장치는 향상된 레이어 두께 제어 (Layer-thickness control) 를 통해 구성되었으며, 패턴 정확도 및 에칭 서피스 품질을 높일 수 있습니다. 또한, 유전체 무결성을 보장하고 오염 가능성을 제거하기 위해 작동 중 입자가 없는 환경이 특징입니다. 또한 TEL MARK7 에는 전용 원격 관리 머신이 포함되어 있어 최적의 제어 및 감독이 가능합니다. 따라서 시스템 설정을 실시간으로 모니터링, 최적화, 조정하여 수동 프로세스의 필요성을 줄일 수 있습니다. 이 툴을 자동화하여 다양한 프로세스를 보다 빠르고 정확하게 진행할 수도 있습니다 (영문). 마지막으로, TOKYO ELECTRON MARK-7 은 고객의 기존 데이터베이스 인프라와 통합하여 다운타임을 최소화하면서 신속하고 반복 가능한 photoresist 작업을 제공합니다. TEL MARK-7은 집적 회로 칩의 고정밀도, 고수율 제조에 이상적인 솔루션을 제공합니다. 컴팩트한 디자인, 낮은 운영 비용, 프로세스 제어 보호 기능, 엄격한 품질 관리 기능을 갖추고 있습니다. 자동화된 컨트롤과 함께 최신 프로젝션 이미징 (projection imaging) 과 패터링 된 광자 기술을 사용하여 TEL Mark 7은 시장에서 최고의 포토레지스트 자산입니다. 향상된 레이어 두께 제어, 입자가 없는 환경, 자동화된 프로세스 관리를 통해, Mark 7은 최고 수준의 포토레지스트 (photoresist) 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.
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