판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9214147

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7은 반도체 장치 제작의 사진 해설에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 photoresist 방사 장치, 멀티 스팟 노출 스테이션 및 자동 열 보호 장치 (auto thermal protection unit) 로 구성됩니다. 포토 esist 방사 장치 (photoresist spinning unit) 는 파퍼를 가로 질러 균일 한 스핀 속도를 달성하기 위해 정확하게 제어 된 속도로 포토 esist 코팅 된 웨이퍼를 회전시키는 데 사용됩니다. 멀티 스팟 노출 스테이션 (Multi-Spot Exposure Station) 은 멀티 스팟 레이저 빔을 사용하여 기존의 마스크 정렬 기술 없이도 photoresist 코팅 된 웨이퍼를 동시에 노출시켜 처리량 수준을 높입니다. 또한, 노출 스테이션 (Exposure Station) 에는 레이저와 카메라를 모두 사용하여 웨이퍼에 노출 이미지의 패턴을 정확하게 집중하고 정렬하는 정렬 장치 (Alignment Unit) 가 장착되어 있습니다. 마지막으로, 자동 열 보호 장치 (auto thermal protection unit) 는 온보드 열 제어 머신으로, 저항 회전 및 노출 과정에서 웨이퍼가 과열되지 않도록 합니다. 작업시 TEL MARK7은 포토 esist 회전 장치로 시작합니다. 포토리스 스트 (photoresist) 가 웨이퍼로 돌출 된 후, 멀티 스팟 노출 스테이션 (multi-spot exposure station) 은 원하는 피쳐를 저항에 에치하기 위해 웨이퍼를 비춘다. 노출 스테이션의 정렬 도구 (Alignment tool) 는 각 개별 웨이퍼에 노출 마스크를 빠르고 정확하게 정렬하도록 보정되어 처리 속도가 빠릅니다. 마지막으로, 자동 열 보호 장치 (Auto Thermal Protection Unit) 는 프로세스 전반에 걸쳐 Photoresist의 최대 열 보호를 위해 웨이퍼의 온도를 모니터링합니다. 전반적으로, TOKYO ELECTRON MARK-7은 강력하고 신뢰할 수있는 포토 리토 그래피 자산으로, 반도체 제조업체는 웨이퍼를 빠르고 정확하게 처리 할 수 있으며, 제조 과정에서 포토 esist에 대한 최고 수준의 열 보호 (thermal protection) 를 제공합니다. 고급 레이저 기반 노출 메커니즘과 정밀 정렬 모델 (precision alignment model) 을 통해, MARK7은 현대 반도체 장치 제조의 높은 처리량 및 정확도 요구 사항을 충족시키는 이상적인 솔루션입니다.