판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098210

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7은 TEL이 개발 한 최첨단 포토 esist 장비로, 저항 이미징의 정확성과 능력을 향상시키기 위해 설계되었습니다. 이 플랫폼은 2 개의 독립적 인 포토 esist 프로세스와 4 개의 독립적 인 오버 헤드 간트리 세트를 지원할 수있는 멀티 태스킹 플랫폼으로, 동일한 쿼츠 플레이트 (quartz plate) 또는 광학 및 디지털 형식으로 여러 개의 플레이트를 동시에 노출 할 수 있으며, 도전적인 기판을 처리 할 수있는 기능을 제공합니다. TEL MARK7에는 두 가지 주요 구성 요소 (리소그래피 챔버와 오프 축 노출 시스템) 가 있습니다. 리소그래피 챔버 (lithography chamber) 는 청소실이며 처리량 및 정확도를 극대화하기 위해 최첨단 컨트롤을 갖추고 있습니다. 여기에는 챔버 내에 진공을 만들 수있는 초고진공 (UHV) 장치 (UHV) 가 포함되어 있어 저항이 공기 없이 노출 될 수 있습니다. 약실 에는 또한 반응성 "플라즈마 '원 이 있는데, 이것 은 노출 되기 전 의 기질 에 대한 저항제 의 접착 을 개선 시키는 데 도움 이 된다. 노출 머신 (Exposure Machine) 은 매우 높은 정밀도로 웨이퍼에서 피쳐를 정확하게 이미징 할 수있는 고해상도 도구입니다. 기판의 방향이나 두께에 관계없이 웨이퍼 (wafer) 기판에 패턴을 정확하게 초점을 맞출 수있는 비축 (off-axis) 조명원이 있습니다. 이 오프 축 자산은 특히 3 차원 구조를 이미징하는 데 중요합니다. 노출 모델에는 노출 과정이 효율적이고 일관성 있고, 마스크를 정확하게 이동하기 위한 고속 모터 제어 (High-Speed Motor Control), 정확한 노출을 보장하기 위한 자동 왜곡, 크기, 배치 측정 (Placement Measurement) 을 제공하는 고급 제어 기능이 있습니다. 또한, 이 장비에는 진단, 프로세스 모니터링, 장애 감지 기능을 제공하는 직관적인 사용자 인터페이스가 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-7 (도쿄 전자 마크-7) 은 뛰어난 이미징 기능과 성능을 제공하는 혁신적인 시스템으로, 향상된 수율, 처리량 및 장치 가동 시간을 제공합니다. 또한 높은 처리량과 유연성으로 인해 비용 및 시장 진출 시간을 절감할 수 있습니다 (영문). 이 포토레시스트 머신 (photoresist machine) 은 고급 전자제품 제조에 이상적인 도구이며, 업계 동향과 수요를 충족시키는 데 필요한 안정성과 성능을 제공합니다.