판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098200

텔/도쿄 일렉트로닉 마크 7 (TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7) 은 반도체 제조 산업에서 필수적인 장비 역할을하는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 광석기 공정을 허용하여 미세한 규모로 구조를 생성 할 수 있습니다. TEL MARK7 (TEL MARK7) 은 통합 포토레지스트 (photoresist) 단위로, 여러 컴포넌트가 있으며, 모두 서로 통합되어 하나의 엔티티를 형성합니다. 이러한 구성 요소 중 일부에는 photoresist spin, wafer transport 및 process chamber가 포함됩니다. photoresist spin은 용매, photoresist 또는 chemicals를 반도체 웨이퍼 표면에 적용하여 photolithographic 과정을 가능하게합니다. 그런 다음, 웨이퍼 (wafer) 에 의해 공정 챔버 (process chamber) 로 운송되어 자외선에 노출됩니다. 이 과정을 통해 photolithographic 패턴이 형성됩니다. TOKYO ELECTRON MARK-7은 광석기 처리 후 반도체 웨이퍼를 쉽게 청소하기 위해 린스 및 스핀 드라이 모듈을 통합합니다. 이것은 린스와 스핀 드라이의 두 단계로 구성됩니다. 린스 (Rinse) 모듈은 웨이퍼에서 모든 화학 물질과 재료를 제거하는 반면, 스핀 드라이 (spin-dry) 모듈은 과도한 잔류 물이나 액체를 제거합니다. 또한 TEL Mark 7 (TEL Mark 7) 에는 다양한 광석학 공정을 수행할 수있는 다양한 내장 기능이 있습니다. 여기에는 화학 물질로 와퍼의 여러 영역을 에칭하고, 프로세스 매개변수를 제어하고, 패턴을 자동화하고, 광석기 (photolithographic) 프로세스가 진행되는 동안 정확한 웨이퍼 위치를 제공하는 기능이 포함됩니다. 전반적으로 TOKYO ELECTRON Mark 7은 반도체 구성 요소를 제조하기위한 효과적이고 신뢰할 수있는 광저장제입니다. 통합 포토 레스트 (photoresist) 구성 요소는 린스 (rinse) 및 스핀 드라이 모듈 (spin-dry module) 을 포함하여 하나의 단위로 완전한 포토 리토 그래피 프로세스를 촉진함으로써 최대 효율성을 제공합니다. 또한, 이 도구는 광석판 처리 (photolithographic process) 를 향상시켜 궁극적으로 더 나은 품질의 제품을 가능하게 하는 다양한 내장 기능을 제공합니다.