판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #143980
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ID: 143980
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1995
Coater / Developer system, 8"
Process: PIX Coat
Software Version: MK807.38
System Power Rating: 208 VAC 3-Phase
Loading Configuration: 4 Loader Uni Cassette
System configuration:
Clean track Mark7
Mark 7 main body
Carrier station 1 x 4 side loading
UPS applicable for AC power box upgrade
Process station block
High speed interface station for canon es3
Wafer edge exposure (wee)
Inline thickness measurement system
Car applicable system closed environment
Solvent supply system for cot unit
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
Dev solution supply system
(CSS to 3 liter buffer tank*2 sets auto supply system)
NH3 monitor specification
Photo resist coater unit (2 cups)
(1 nozzle per cup with RDS pump for cot 2-1, 2-2 & 2-3)
(1 nozzle per cup with cyber pump for cot 2-1)
Coater cup temperature synchronized control system
Developer unit (2 cups)
(E2 nozzle + normal rinse nozzle; 1set)
Degas module installation
Adhesion unit (ADH)
Hot plate
Cool plate
Precision hot plate (PHP)
Precision chilling hot plate (PCH)
Air control kit for PCH & PHP
Trancision chilling plate (TCP)
External chemical cabinet
Temperature & humidity controller esa-4 (CAR)
Temperature control unit (TCU)
Software options
On-line software (TEL-GEM standard)
Advance cascading software option
Parallel processing software option
Process log software option
TEL S2-93 safety specification
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment는 반도체 웨이퍼에 이미지를 만드는 데 사용되는 시스템입니다. 이 단위는 [양성 톤] 과 [음성 톤] 이라는 두 가지 유형의 광사 단위를 사용하여 어떤 유형이 사용되는지에 따라 다른 파장의 빛에 반응하는 빛에 민감한 재료로 웨이퍼를 코팅합니다. 이 기계는 두 가지 기술을 결합하여 웨이퍼에 이미지를 만듭니다. 포토 마스크 (Photo Masks) 와 직접 쓰기 (Direct Write) 입니다. 사진 마스크는 필름 시트에 인쇄되는 패턴입니다. 그런 다음, "필름 '은 광원 과" 웨이퍼' 사이 에 앉으며, 어떤 형태 의 광전사 가 사용 되느냐에 따라, 빛 이 "마스크 '를 막거나 통과 하여" 웨이퍼' 에 있는 광전사 에 영향 을 미칠 수 있게 된다. 직접 쓰기 (Direct Write) 는 세밀하고 집중된 광선을 사용하여 패턴을 웨이퍼에 직접 그리는 컴퓨터 제어 도구입니다. TEL MARK7 Photoresist Asset은 MFM (Mass Flow Module), Loadlock and Orientation Model, Spinner, Robot Type Auto Changeover Equipment (RTCS), Mask Aligner 및 Direct Writing System을 포함한 여러 구성 요소로 구성됩니다. MFM은 온도, 가스 유량 (gas flow rate) 및 압력 (pressure) 과 같은 포토 esist의 비커와 관련된 여러 매개 변수를 측정하고 필요에 따라 조정합니다. 하중 (Loadlock) 및 방향 단위 (Orientation Unit) 는 웨이퍼를 스피너의 지정된 위치에 배치합니다. 스피너 (Spinner) 는 웨이퍼를 빠른 속도로 회전시켜 표면에서 포토 esist의 균일 한 코팅을 제공합니다. Robot Type Auto Changeover Machine은 자동으로 photoresist의 사용 된 비커를 신선한 비커로 대체합니다. Mask Aligner는 필름 마스크를 받아 웨이퍼에 초점을 맞춥니다. 마지막으로, 직접 쓰기 도구 (Direct Writing Tool) 는 레이저를 사용하여 미리 정의된 매개변수에 따라 웨퍼에 패턴을 그립니다. 그런 다음, 원치 않는 광전물질 을 청소 과정 을 이용 하여 제거 하는데, 이것 은 보통 산 을 혼합 하는 것 과 관련 이 있다. 전체 프로세스는 몇 초 밖에 걸리지 않으며, 서브미크론 기능을 생성할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist Asset은 집적 회로 제조를 위해 반도체 웨이퍼에 이미지를 만드는 데 사용되는 많은 시스템 중 하나입니다. 매우 정확하고, 안정적이며, 효율적이며, 반도체 산업에 혁명을 일으켰습니다.
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