판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9397193
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ID: 9397193
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2012
System, 12"
Material / Chemical:
PR, HMDS, Thinner, DEV
ArF Sub-process
Operating system: LINUX / Windows
SMIF
Hardware composition:
Load module:
(4) TEL Lithius load ports
(1) TEL Lithius loader arm
(5) TEL Lithius transfer robot arms
Process module:
Chamber
Pump
RF Generator
Gas box
PC
Utility:
Distribution panel
THC
Chiller
Chemical box
ETC
Parts and tool
Module:
(8) PM1 Soft bakes
(4) PM2 ARC bakes
(8) PM3 PEB
(3) PM4 Hard bakes
(3) PM5 ADH
(5) PM6 COT
(5) PM7 DEV
(1) PM8 WEE
PM9
Litho tool:
Lens
Laser
Light source
Alignment
Power
Process: HT-PYRO (1250C)
Safety: TEL Standard
Layout type: U/Box
Tool direction: LL
Front furnace body: Coating (FDP Standard)
Heater (Range of temperature): High VMU-40-007EXT(41) [850-1250°C]
Process:
Pressure: ATM
Temperature: 1250°C
Wafer / Cassette transport:
SEMI Standard - Notch, 12"
T/S Wafer jump out detection
Fork type / Material: 1+4 / Al203
Wafer In / Out order: ED -> P -> M / M -> P -> ED
Cassette:
Miraial (MK-823S-H)
Slot: 26
Stocker: 21
Monitor cassette:
In P1, P2, M / Out P1, P2, M
Fork :
Wafer detection
Wafer displacement detection
Pitch conversion
Missing parts:
S/V ADH256 Chamber coat error
DEV303 AOV Bath rinse
DEV303 AOV Firm rinse
IRAS R-Axis driver
Port clamp cylinder
COT201, COT203 Spin chuck
LHP Temperature board
Mapping arm assembly
WEE Fan
L-Arm Z-motor
IRAS Z-Driver
IRAS Y-Driver
IRAS X-Driver
IRAS X-motor
UPS Battery swap
Control power supply swap
EC Controller swap
CRA Cover, ITL Switch
Ejector
Y-Driver
X5 Cable
DEV 301 Spain I/O Board
(2) Borads, COT MTR
4-Ports assembly
Hard Disk Drive (HDD)
2012 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 다양한 제조 공정에 사용되는 포토 esist 장비입니다. Photoresist 시스템은 추가 처리 또는 제조 단계를 위해 기판을 준비하고 처리하는 데 사용됩니다. TEL Lithius는 기술 솔루션 제공 업체 인 TEL이 만든 차세대 포토 esist 시스템입니다. 고객은 몇 단계로 Resist Process 를 개발할 수 있습니다. 고해상도 마이크로 리토 그래피 (micrithography) 에서 해상도와 초점 깊이를 개선하면서 정확한 패턴 제어 기능을 제공합니다. 이 기계는 다양한 photolithography 프로세스에서 프로세스 처리량을 높이고 수율을 향상시킬 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Lithius는 박막 이미징, 심자외선 리소그래피 및 원자 빔 리소그래피와 같은 고급 리소그래피 기술을 수행 할 수 있습니다. 또한 단일 마스크를 사용하여 단일 웨이퍼에 고해상도 패턴 (high-resolution pattern) 을 패턴화하는 기술 인 포토패터닝 (photopatterning) 을 지원합니다. 이 도구는 전자 빔 소스, 솔리드 몰입 렌즈, 가변 수치 조리개, 통합 객관적 투영 렌즈 등 여러 가지 고급 기술을 사용합니다. 이러한 기술 조합을 통해 자산은 다른 포토 esist 기법과 비교하여 더 높은 해상도와 더 좋은 패턴을 생성 할 수 있습니다. 이 모델은 사용 및 운영이 용이하도록 설계되었으며, 고객은 프로세스 조정을 위해 빠르게 변경할 수 있는 매개변수 (parameter) 나 레시피 (recipe) 를 선택할 수 있습니다. 이 장비는 고객에게 특정한 요구 사항에 맞게 조정할 수 있는 어느 정도의 유연성을 제공합니다 (영문). 이 시스템은 향상된 필름 두께 제어, 더 큰 빔 전류 (beam current envelope) 및 향상된 기판 재료 성능을 제공합니다. 이러한 기능은 향상된 처리량과 정확한 패턴화 결과를 고객에게 제공합니다. Lithius는 칩 제조업체 및 기타 제조 응용 프로그램 (유기 태양 광 모듈, 고밀도 상호 연결, 미세 유체 및 고급 기판) 에 이상적입니다. 이 장치는 이식, 패턴, 드라이 에치 (dry etch) 및 습식 에치 (wet etch) 등 다양한 프로세스에 사용할 수 있습니다. 전반적으로 TEL/TOKYO ELECTRON Lithius는 사진술 프로세스를 능률화하고 개선하도록 설계된 강력하고 다재다능한 photoresist 기계입니다. 이 솔루션은 처리량 및 생산량 향상을 위한 고급 (advanced) 툴을 찾는 고객에게 이상적인 솔루션입니다.
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